Химический состав пленок BCxNy, полученных плазмохимическим разложением триметиламинборана Full article
Journal |
Неорганические материалы
ISSN: 0002-337X |
||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|
Output data | Year: 2003, Volume: 39, Number: 4, Pages: 447-455 Pages count : 9 | ||||||
Authors |
|
||||||
Affiliations |
|
Funding (3)
1 | Russian Foundation for Basic Research | 00-03-32507 |
2 | Президиум РАН | 181 |
3 | Russian Foundation for Basic Research | 00-15-97448 |
Abstract:
Пленки карбонитрида и нитрида бора получены плазмостимулированным химическим осаждением из газовой фазы с использованием в качестве исходного соединения триметиламинборана и его смеси с аммиаком, водородом или гелием. Методами эллипсометрии, сканирующей микроскопии, ИК-и КР-спектроскопии и рентгенофотоэлектронной спектроскопии изучено влияние состава исходной газовой смеси и температуры подложки на химический состав синтезированных пленок. Установлено, что основное влияние на кинетику роста и физико-химические свойства слоев оказывают состав исходной газовой смеси, природа активирующего газа и температура подложки. Варьирование этих параметров позволяет получать слои различного состава (h-BN, смесь h-BN и B4C и тройное соединение BCxNy).
Cite:
Косинова М.Л.
, Румянцев Ю.М.
, Голубенко А.Н.
, Файнер Н.И.
, Аюпов Б.М.
, Долговесова И.П.
, Колесов Б.А.
, Каичев В.В.
, Кузнецов Ф.А.
Химический состав пленок BCxNy, полученных плазмохимическим разложением триметиламинборана
Неорганические материалы. 2003. Т.39. №4. С.447-455. РИНЦ
Химический состав пленок BCxNy, полученных плазмохимическим разложением триметиламинборана
Неорганические материалы. 2003. Т.39. №4. С.447-455. РИНЦ
Translated:
Kosinova M.L.
, Rumyantsev Y.M.
, Golubenko A.N.
, Fainer N.I.
, Ayupov B.M.
, Dolgovesova I.P.
, Kolesov B.A.
, Kaichev V.V.
, Kuznetsov F.A.
Chemical Composition of Boron Carbonitride Films Grown by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition from Trimethylamineborane
Inorganic Materials. 2003. V.39. N4. P.366-373. DOI: 10.1023/A:1023227716045 WOS Scopus РИНЦ
Chemical Composition of Boron Carbonitride Films Grown by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition from Trimethylamineborane
Inorganic Materials. 2003. V.39. N4. P.366-373. DOI: 10.1023/A:1023227716045 WOS Scopus РИНЦ
Dates:
Submitted: | May 24, 2002 |
Published print: | Apr 1, 2003 |
Identifiers:
Elibrary | 17281636 |
publication.block.citing_info:
БД | Цитирований |
---|---|
Elibrary | 9 |