Механизм разложения тонких пленок оксида родия Rh2O3 Full article
Journal |
Кинетика и катализ
ISSN: 0453-8811 |
||
---|---|---|---|
Output data | Year: 1995, Volume: 36, Number: 3, Pages: 392-398 Pages count : 7 | ||
Authors |
|
||
Affiliations |
|
Abstract:
Методами термодесорбции и математического моделирования исследовано разложение тонких пленок Rh2O3 (1-10 монослоев) для образцов родия Rh(100) и поликристаллического Rh в интервале температур 400-1600К. Разложение оксидных пленок сопровождается выделением О2 при 800-900К в виде "узкого" 'бета'(1)-пика. Рассмотрена модель, в которой пленка оксида разлагается при постоянно заполненном поверхностном слое и постепенном сокращении ее толщины.
Cite:
Саланов А.Н.
, Савченко В.И.
Механизм разложения тонких пленок оксида родия Rh2O3
Кинетика и катализ. 1995. Т.36. №3. С.392-398. РИНЦ
Механизм разложения тонких пленок оксида родия Rh2O3
Кинетика и катализ. 1995. Т.36. №3. С.392-398. РИНЦ
Translated:
Salanov A.N.
, Savchenko V.I.
Mechanism of the Decomposition of Rh2O3 Thin Films
Kinetics and Catalysis. 1995. V.36. N3. P.356-362. WOS РИНЦ
Mechanism of the Decomposition of Rh2O3 Thin Films
Kinetics and Catalysis. 1995. V.36. N3. P.356-362. WOS РИНЦ
Dates:
Submitted: | Jan 19, 1993 |
Identifiers:
Elibrary | 21629748 |
Citing:
DB | Citing |
---|---|
Elibrary | 1 |