Optical Properties and Micromorphology of ZrO2/Si Films Created by Ion Beam Sputtering Deposition Full article
Journal |
Фундаментальные проблемы современного материаловедения
ISSN: 1811-1416 |
||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|
Output data | Year: 2007, Volume: 4, Number: 3, Pages: 62-65 Pages count : 4 | ||||||
Authors |
|
||||||
Affiliations |
|
Abstract:
Пленки ZrO2 были нанесены на Si(100) методом ионно-лучевого распыления (ИЛР) при температуре T = 70°C. Структурные характеристики пленок и строение интерфейса ZrO2/Si были исследованы методами дифракции электронов высоких энергий на отражение (ДЭВЭО) и просвечивающей электронной высокого разрешения (ПЭМВР). Оптические параметры пленки определены методом спектральной эллипсометрии в спектральном диапазоне 250-900 нм.
ZrO2 films have been deposited on Si(100) by ion beam sputtering deposition (IBSD) at temperature T = 70°C. Film structure properties and ZrO2/Si interface were observed with reflection high energy electron diffraction (RHEED) and high resolution transmission electron microscopy (HRTEM). Optical properties of the film were studied by spectroscopic ellipsometry over the spectral range 250-900 nm.
Cite:
Atuchin V.V.
, Aliev V.S.
, Kruchinin V.N.
, Ramana C.V.
Optical Properties and Micromorphology of ZrO2/Si Films Created by Ion Beam Sputtering Deposition
Фундаментальные проблемы современного материаловедения. 2007. V.4. N3. P.62-65. РИНЦ
Optical Properties and Micromorphology of ZrO2/Si Films Created by Ion Beam Sputtering Deposition
Фундаментальные проблемы современного материаловедения. 2007. V.4. N3. P.62-65. РИНЦ
Dates:
Submitted: | Aug 10, 2007 |
Identifiers:
Elibrary | 12774605 |
Citing:
Пока нет цитирований