Фоторезистные слои на основе акриламидных производных полифторированных халконов для формирования электропроводящих микроструктур на анодированном алюминии Dissertations
Общие сведения
Author | |
---|---|
Defence status | Consideration failed |
Ученая степень | Phd химических наук по специальности 1.4.4 - Физическая химия |
Defeence date | Nov 24, 2021 |
Council | 24.1.222.01 - Институт катализа им. Г.К. Борескова СО РАН |
Organisation | Новосибирский институт органической химии имени Н.Н. Ворожцова Сибирского отделения Российской академии наук |