Фоторезистные слои на основе акриламидных производных полифторированных халконов для формирования электропроводящих микроструктур на анодированном алюминии Диссертации
Общие сведения
| Соискатель | |
|---|---|
| Статус защиты | Отказ в приеме к защите |
| Ученая степень | Кандидат химических наук по специальности 1.4.4 - Физическая химия |
| Дата защиты | 24 нояб. 2021 г. |
| Дисс. совет | 24.1.222.01 - Институт катализа им. Г.К. Борескова СО РАН |
| Организация выполнения работы | Новосибирский институт органической химии имени Н.Н. Ворожцова Сибирского отделения Российской академии наук |