Mechanism of the Decomposition of Rh2O3 Thin Films Научная публикация
Журнал |
Kinetics and Catalysis
ISSN: 0023-1584 , E-ISSN: 1608-3210 |
||
---|---|---|---|
Вых. Данные | Год: 1995, Том: 36, Номер: 3, Страницы: 356-362 Страниц : 7 | ||
Ключевые слова | OXIDATION; RHODIUM; SURFACE; OXYGEN | ||
Авторы |
|
||
Организации |
|
Реферат:
The decomposition of Rh2O3 thin films (1 - 10 monolayers) for Rh(100) and polycrystalline rhodium at 400 - 1600 K is studied by thermodesorption (TD) and mathematical modeling. The decomposition of oxide films is accompanied by O-2 liberation at 800 - 900 K and by the appearance of the corresponding ''narrow'' beta(1) peak in the TD spectrum. The model of decomposition, in which the surface layer of the oxide film is continuously covered and its thickness gradually decreases, is considered.
Библиографическая ссылка:
Salanov A.N.
, Savchenko V.I.
Mechanism of the Decomposition of Rh2O3 Thin Films
Kinetics and Catalysis. 1995. V.36. N3. P.356-362. WOS РИНЦ
Mechanism of the Decomposition of Rh2O3 Thin Films
Kinetics and Catalysis. 1995. V.36. N3. P.356-362. WOS РИНЦ
Оригинальная версия:
Саланов А.Н.
, Савченко В.И.
Механизм разложения тонких пленок оксида родия Rh2O3
Кинетика и катализ. 1995. Т.36. №3. С.392-398. РИНЦ
Механизм разложения тонких пленок оксида родия Rh2O3
Кинетика и катализ. 1995. Т.36. №3. С.392-398. РИНЦ
Даты:
Поступила в редакцию: | 19 янв. 1993 г. |
Опубликована в печати: | 1 мая 1995 г. |
Идентификаторы БД:
Web of science | WOS:A1995RJ73100013 |
РИНЦ | 30595846 |
Chemical Abstracts | 1995:707468 |
Chemical Abstracts (print) | 123:124186 |
Цитирование в БД:
БД | Цитирований |
---|---|
Web of science | 2 |