Взаимодействие кислорода с натрием, введенным на поверхность полупроводниковой пленки из стекла электрическим полем. I. Система Na/TiO2 Научная публикация
Журнал |
Кинетика и катализ
ISSN: 0453-8811 |
||
---|---|---|---|
Вых. Данные | Год: 1983, Том: 24, Номер: 3, Страницы: 667-670 Страниц : 4 | ||
Авторы |
|
||
Организации |
|
Реферат:
Работа посвящена изучению механизма влияния электрического поля на хемосорбционные свойства полупроводниковых пленок TiO2, нанесённых на стекло "пирекс". Показано, что после прохождения через конденсатор, диэлектрической прокладкой которого является стекло, а одной из обкладок пленкаTiO2, заряда 7 ∙ 10(15) - 4 ∙ 10(16) элементарных зарядов/см2 геометрической поверхности изменение свойств пленки по отношению к кислороду обусловлено электролитическим выходом натрия из стекла. На поверхности плёнки натрий находится в виде мелкодисперсной металлической фазы.
Библиографическая ссылка:
Колчанова В.М.
, Михеева Э.П.
, Усольцева Л.М.
, Зайковский В.И.
, Кейер Н.П.
Взаимодействие кислорода с натрием, введенным на поверхность полупроводниковой пленки из стекла электрическим полем. I. Система Na/TiO2
Кинетика и катализ. 1983. Т.24. №3. С.667-670. РИНЦ
Взаимодействие кислорода с натрием, введенным на поверхность полупроводниковой пленки из стекла электрическим полем. I. Система Na/TiO2
Кинетика и катализ. 1983. Т.24. №3. С.667-670. РИНЦ
Переводная:
Kolchanova V.M.
, Mikheeva E.P.
, Usol'tseva L.M.
, Zaikovskii V.I.
, Keier N.P.
Interaction of Oxygen with Sodium Incorporated in the Surface of a Semiconducting Glass-Film by an Electric-Field. 1. The Na/TiO2 System
Kinetics and Catalysis. 1983. V.24. N3. P.561-564. WOS РИНЦ
Interaction of Oxygen with Sodium Incorporated in the Surface of a Semiconducting Glass-Film by an Electric-Field. 1. The Na/TiO2 System
Kinetics and Catalysis. 1983. V.24. N3. P.561-564. WOS РИНЦ
Даты:
Поступила в редакцию: | 12 янв. 1982 г. |
Опубликована в печати: | 1 мая 1983 г. |
Идентификаторы БД:
РИНЦ | 30312437 |
Chemical Abstracts | 1983:494429 |
Chemical Abstracts (print) | 99:94429 |
Цитирование в БД:
Пока нет цитирований