Механизм разложения тонких пленок оксида родия Rh2O3 Научная публикация
Журнал |
Кинетика и катализ
ISSN: 0453-8811 |
||
---|---|---|---|
Вых. Данные | Год: 1995, Том: 36, Номер: 3, Страницы: 392-398 Страниц : 7 | ||
Авторы |
|
||
Организации |
|
Реферат:
Методами термодесорбции и математического моделирования исследовано разложение тонких пленок Rh2O3 (1-10 монослоев) для образцов родия Rh(100) и поликристаллического Rh в интервале температур 400-1600К. Разложение оксидных пленок сопровождается выделением О2 при 800-900К в виде "узкого" 'бета'(1)-пика. Рассмотрена модель, в которой пленка оксида разлагается при постоянно заполненном поверхностном слое и постепенном сокращении ее толщины.
Библиографическая ссылка:
Саланов А.Н.
, Савченко В.И.
Механизм разложения тонких пленок оксида родия Rh2O3
Кинетика и катализ. 1995. Т.36. №3. С.392-398. РИНЦ
Механизм разложения тонких пленок оксида родия Rh2O3
Кинетика и катализ. 1995. Т.36. №3. С.392-398. РИНЦ
Переводная:
Salanov A.N.
, Savchenko V.I.
Mechanism of the Decomposition of Rh2O3 Thin Films
Kinetics and Catalysis. 1995. V.36. N3. P.356-362. WOS РИНЦ
Mechanism of the Decomposition of Rh2O3 Thin Films
Kinetics and Catalysis. 1995. V.36. N3. P.356-362. WOS РИНЦ
Даты:
Поступила в редакцию: | 19 янв. 1993 г. |
Идентификаторы БД:
РИНЦ | 21629748 |
Цитирование в БД:
БД | Цитирований |
---|---|
РИНЦ | 1 |