A Study of the Structure of (HfO2 ) x (Al2 O3)1−x /Si Films by X-Ray Photoelectron Spectroscopy Научная публикация
Журнал |
Journal of Structural Chemistry
ISSN: 0022-4766 , E-ISSN: 1573-8779 |
||||
---|---|---|---|---|---|
Вых. Данные | Год: 2011, Том: 52, Номер: 3, Страницы: 480-487 Страниц : 8 DOI: 10.1134/S002247661103005X | ||||
Ключевые слова | Alumina, Binary solution, Hafnium aluminate, Hafnium dioxide, Layer-by-layer analysis, X-ray photoelectron spectroscopy | ||||
Авторы |
|
||||
Организации |
|
Информация о финансировании (1)
1 | Сибирское отделение Российской академии наук | 70 |
Реферат:
By X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), using the technique of layer-by-layer analysis, the films of (HfO2) x (Al2O3)1−x solid solutions synthesized by chemical vapor deposition are studied. The possibility to determine the structure of solid binary solutions based on the analysis of the XPS spectra is demonstrated.
Библиографическая ссылка:
Kaichev V.V.
, Dubinin Y.V.
, Smirnova T.P.
, Lebedev M.S.
A Study of the Structure of (HfO2 ) x (Al2 O3)1−x /Si Films by X-Ray Photoelectron Spectroscopy
Journal of Structural Chemistry. 2011. V.52. N3. P.480-487. DOI: 10.1134/S002247661103005X WOS Scopus РИНЦ
A Study of the Structure of (HfO2 ) x (Al2 O3)1−x /Si Films by X-Ray Photoelectron Spectroscopy
Journal of Structural Chemistry. 2011. V.52. N3. P.480-487. DOI: 10.1134/S002247661103005X WOS Scopus РИНЦ
Оригинальная версия:
Каичев В.В.
, Дубинин Ю.В.
, Смирнова Т.П.
, Лебедев М.С.
Изучение структуры пленок (HfO2)x(Al2O3)1–x/Si методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии
Журнал структурной химии. 2011. Т.52. №3. С.495-502. RSCI РИНЦ
Изучение структуры пленок (HfO2)x(Al2O3)1–x/Si методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии
Журнал структурной химии. 2011. Т.52. №3. С.495-502. RSCI РИНЦ
Даты:
Поступила в редакцию: | 5 мар. 2010 г. |
Опубликована в печати: | 1 июн. 2011 г. |
Опубликована online: | 29 июл. 2011 г. |
Идентификаторы БД:
Web of science | WOS:000294860200005 |
Scopus | 2-s2.0-80054764488 |
РИНЦ | 18009920 |
Chemical Abstracts | 2011:947680 |
Chemical Abstracts (print) | 155:601881 |
OpenAlex | W2040937254 |