Исследование электронной структуры пленок HfO2 методом фотолюминесценции Научная публикация
Журнал |
Журнал структурной химии
ISSN: 0136-7463 |
||||
---|---|---|---|---|---|
Вых. Данные | Год: 2008, Том: 49, Номер: 1, Страницы: 27-36 Страниц : 10 | ||||
Ключевые слова | ПЛЕНКИ ДИОКСИДА ГАФНИЯ, ФОТОЛЮМИНЕСЦЕНЦИЯ, ВОДА, ГИДРОКСИЛ-РАДИКАЛ | ||||
Авторы |
|
||||
Организации |
|
Информация о финансировании (2)
1 | Российский фонд фундаментальных исследований | 05-03-32393 |
2 | Совет по грантам Президента Российской Федерации | НШ-4419.2006.3 |
Реферат:
Разработана методика с применением водородно-дейтериевой лампы в качестве источника возбуждения фотолюминесценции (ФЛ) для исследования пленок диоксида гафния. Проведено изучение ФЛ пленок HfO2. Анализ спектров ФЛ исследуемых пленок показал, что их характер соответствует спектрам ФЛ, приведенным в известных публикациях, где возбуждение ФЛ обеспечивали значительно более мощными источниками света: СИ-радиацией, либо ArF-лазером. Сопоставление полученных нами данных с литературными подтверждает вывод о слабой зависимости характера ФЛ пленок от типа исходного вещества, используемого при их синтезе. Интенсивность полос спектров ФЛ зависит от условий синтеза пленок и температуры их отжига. Анализ спектров ФЛ и спектров возбуждения позволил выявить полосу эмиссии при энергии E ~ 4 эВ с узким максимумом возбуждения при Eмакс @ 4,25 эВ, которую мы приписали к резонансному электронно-колебательному переходу A2S+ « X2Pi в возбужденном радикале OH. Обнаружение в спектрах ФЛ пленок HfO2 воды, которая, как один из продуктов термического разложения Hf(dpm)4 в процессе роста пленки, захватывается в виде примеси, позволяет по-новому поставить вопрос о влиянии этой примеси на величину токов утечки и важности контроля за ее содержанием в пленках.
Библиографическая ссылка:
Расторгуев А.А.
, Белый В.И.
, Смирнова Т.П.
, Яковкина Л.В.
Исследование электронной структуры пленок HfO2 методом фотолюминесценции
Журнал структурной химии. 2008. Т.49. №1. С.27-36. РИНЦ
Исследование электронной структуры пленок HfO2 методом фотолюминесценции
Журнал структурной химии. 2008. Т.49. №1. С.27-36. РИНЦ
Переводная:
Rastorguev A.A.
, Belyi V.I.
, Smirnova T.P.
, Yakovkina L.V.
Photoluminescence Study of the Electronic Structure of HfO2 Films
Journal of Structural Chemistry. 2008. V.49. N1. P.21-30. DOI: 10.1007/s10947-008-0004-9 WOS Scopus РИНЦ
Photoluminescence Study of the Electronic Structure of HfO2 Films
Journal of Structural Chemistry. 2008. V.49. N1. P.21-30. DOI: 10.1007/s10947-008-0004-9 WOS Scopus РИНЦ
Даты:
Поступила в редакцию: | 28 апр. 2007 г. |
Идентификаторы БД:
РИНЦ | 11917178 |
Цитирование в БД:
БД | Цитирований |
---|---|
РИНЦ | 2 |