1
|
Perevalov T.V.
,
Iskhakzai R.M.K.
,
Prosvirin I.P.
,
Aliev V.S.
,
Gritsenko V.A.
Forming-Free Memristors Based on Hafnium Oxide Processed in Electron Cyclotron Resonance Hydrogen Plasma
Journal of Experimental and Theoretical Physics Letters (JETP Letters). 2022.
V.115. N2. P.79-83. DOI: 10.1134/s0021364022020084
WOS
Scopus
РИНЦ
|
2
|
Перевалов Т.В.
,
Исхакзай Р.М.Х.
,
Просвирин И.П.
,
Алиев В.Ш.
,
Гриценко В.А.
Бесформовочные мемристоры на основе оксида гафния, обработанного в водородной плазме электрон-циклотронного резонанса
Письма в Журнал экспериментальной и теоретической физики. 2022.
Т.115. №1-2(1). С.89-93. DOI: 10.31857/s1234567822020045
РИНЦ
|
3
|
Voronkovskii V.A.
,
Aliev V.S.
,
Gerasimova A.K.
,
Perevalov T.V.
,
Prosvirin I.P.
,
Islamov D.R.
Influence of the Active TaN/ZrOx/Ni Memristor Layer Oxygen Content on Forming and Resistive Switching Behavior
Nanotechnology. 2021.
V.32. N18. 185205
:1-19. DOI: 10.1088/1361-6528/abce7b
WOS
Scopus
РИНЦ
|
4
|
Voronkovskii V.A.
,
Perevalov T.V.
,
Iskhakzay R.M.H.
,
Aliev V.S.
,
Gritsenko V.A.
,
Prosvirin I.P.
Phonon-Assisted Electron Tunneling between Traps in Silicon Oxide Films Treated in Hydrogen Plasma
Journal of Non-Crystalline Solids. 2020.
V.546. 120256
:1-5. DOI: 10.1016/j.jnoncrysol.2020.120256
WOS
Scopus
РИНЦ
|
5
|
Перевалов Т.В.
,
Исхакзай Р.М.Х.
,
Алиев В.Ш.
,
Гриценко В.А.
,
Просвирин И.П.
Атомная и электронная структура пленок SiOx, полученных с помощью водородной плазмы электрон-циклотронного резонанса
Журнал экспериментальной и теоретической физики. 2020.
Т.158. №6(12). С.1083-1088. DOI: 10.31857/s004445102012007x
РИНЦ
|
6
|
Perevalov T.V.
,
Iskhakzai R.M.K.
,
Aliev V.S.
,
Gritsenko V.A.
,
Prosvirin I.P.
Atomic and Electronic Structure of SiOx Films Obtained with Hydrogen Electron Cyclotron Resonance Plasma
Journal of Experimental and Theoretical Physics. 2020.
V.131. N6. P.940-944. DOI: 10.1134/s1063776120110084
WOS
Scopus
РИНЦ
|
7
|
Gritsenko V.A.
,
Perevalov T.V.
,
Voronkovskii V.A.
,
Gismatulin A.A.
,
Kruchinin V.N.
,
Aliev V.S.
,
Pustovarov V.A.
,
Prosvirin I.P.
,
Roizin Y.
Charge Transport and the Nature of Traps in Oxygen Deficient Tantalum Oxide
ACS Applied Materials and Interfaces. 2018.
V.10. N4. P.3769-3775. DOI: 10.1021/acsami.7b16753
WOS
Scopus
РИНЦ
|
8
|
Gritsenko V.A.
,
Volodin V.A.
,
Perevalov T.V.
,
Kruchinin V.N.
,
Gerasimova A.K.
,
Aliev V.S.
,
Prosvirin I.P.
Nanoscale Potential Fluctuations in Nonstoichiometrics Tantalum Oxide
Nanotechnology. 2018.
V.29. N42. 425202
:1-9. DOI: 10.1088/1361-6528/aad430
WOS
Scopus
РИНЦ
|
9
|
Gritsenko V.A.
,
Novikov Y.N.
,
Perevalov T.V.
,
Kruchinin V.N.
,
Aliev V.S.
,
Gerasimova A.K.
,
Erenburg S.B.
,
Trubina S.V.
,
Kvashnina K.O.
,
Prosvirin I.P.
,
Lanza M.
Nanoscale Potential Fluctuations in Zirconium Oxide and the Flash Memory Based on Electron and Hole Localization
Advanced Electronic Materials. 2018.
1700592
:1-8. DOI: 10.1002/aelm.201700592
WOS
Scopus
РИНЦ
|
10
|
Perevalov T.V.
,
Gritsenko V.A.
,
Gismatulin A.A.
,
Voronkovskii V.A.
,
Gerasimova A.K.
,
Aliev V.S.
,
Prosvirin I.A.
Electronic Structure and Charge Transport in Nonstoichiometric Tantalum Oxide
Nanotechnology. 2018.
V.29. N26. 264001
:1-9. DOI: 10.1088/1361-6528/aaba4c
WOS
Scopus
РИНЦ
|
11
|
Islamov D.R.
,
Kruchinin V.N.
,
Aliev V.S.
,
Perevalov T.V.
,
Gritsenko V.A.
,
Prosvirin I.P.
,
Orlov O.M.
,
Chin A.
Potential Fluctuation in RRAM Based on Non-Stoichiometric Hafnium Sub-Oxides
Advances in Science and Technology. 2016.
V.99. P.69-74. DOI: 10.4028/www.scientific.net/ast.99.69
РИНЦ
|
12
|
Aliev V.S.
,
Gerasimova A.K.
,
Kruchinin V.N.
,
Gritsenko V.A.
,
Prosvirin I.P.
,
Badmaeva I.A.
The Atomic Structure and Chemical Composition of HfOx (x<2) Films Prepared by Ion-Beam Sputtering Deposition
Materials Research Express. 2016.
V.3. P.085008-1-8. DOI: 10.1088/2053-1591/3/8/085008
WOS
Scopus
РИНЦ
|
13
|
Orlov O.M.
,
Krasnikov G.Y.
,
Gritsenko V.A.
,
Kruchinin V.N.
,
Perevalov T.V.
,
Aliev V.S.
,
Islamov D.R.
,
Prosvirin I.P.
Nanoscale Potential Fluctuation in Non-Stoichiometric Hafnium Suboxides
ECS Transactions. 2015.
V.69. N5. P.237-241. DOI: 10.1149/06905.0237ecst
Scopus
РИНЦ
|
14
|
Kruchinin V.N.
,
Aliev V.S.
,
Perevalov T.V.
,
Islamov D.R.
,
Gritsenko V.A.
,
Prosvirin I.P.
,
Cheng C.H.
,
Chin A.
Nanoscale Potential Fluctuation in Non-Stoichiometric HfOx and Low Resistive Transport in RRAM
Microelectronic Engineering. 2015.
V.147. P.165-167. DOI: 10.1016/j.mee.2015.04.091
WOS
Scopus
РИНЦ
|
15
|
Perevalov T.V.
,
Aliev V.S.
,
Gritsenko V.A.
,
Saraev A.A.
,
Kaichev V.V.
,
Ivanova E.V.
,
Zamoryanskaya M.V.
The Origin of 2.7 eV Luminescence and 5.2 eV Excitation Band in Hafnium Ooxide
Applied Physics Letters. 2014.
V.104. N7. P.071904-1-071904-5. DOI: 10.1063/1.4865259
WOS
Scopus
РИНЦ
|
16
|
Perevalov T.V.
,
Aliev V.S.
,
Gritsenko V.A.
,
Saraev A.A.
,
Kaichev V.V.
Electronic Structure of Oxygen Vacancies in Hafnium Oxide
Microelectronic Engineering. 2013.
V.109. P.21-23. DOI: 10.1016/j.mee.2013.03.005
WOS
Scopus
РИНЦ
|
17
|
Ivanov M.V.
,
Perevalov T.V.
,
Aliev V.S.
,
Gritsenko V.A.
,
Kaichev V.V.
Electronic Structure of δ-Ta2O5 with Oxygen Vacancy: ab initio Calculations and Comparison with Experiment
Journal of Applied Physics. 2011.
V.110. P.024115-1 - 024115-5. DOI: 10.1063/1.3606416
WOS
Scopus
РИНЦ
|
18
|
Иванов М.В.
,
Перевалов Т.В.
,
Алиев В.Ш.
,
Гриценко В.А.
,
Каичев В.В.
Моделирование ab initio электронной структуры δ-Ta2O5 с кислородной вакансией и сравнение с экспериментом
Журнал экспериментальной и теоретической физики. 2011.
Т.139. №6. С.1182-1189.
РИНЦ
|
19
|
Ivanov M.V.
,
Perevalov T.V.
,
Aliev V.S.
,
Gritsenko V.A.
,
Kaichev V.V.
Ab initio Simulation of the Electronic Structure of δ-Ta2O5 with Oxygen Vacancy and Comparison with Experiment
Journal of Experimental and Theoretical Physics. 2011.
V.112. N6. P.1035-1041. DOI: 10.1134/S1063776111050037
WOS
Scopus
РИНЦ
|
20
|
Atuchin V.V.
,
Kruchinin V.N.
,
Kalinkin A.V.
,
Aliev V.S.
,
Rykhlitskii S.V.
,
Shvets V.A.
,
Spesivtsev E.V.
Optical Properties of the HfO2 – xNx and TiO2 – xNx Films Prepared by Ion Beam Sputtering
Optics and Spectroscopy. 2009.
V.106. N1. P.72-77. DOI: 10.1134/S0030400X09010093
WOS
Scopus
РИНЦ
|
21
|
Атучин В.В.
,
Кручинин В.Н.
,
Калинкин А.В.
,
Алиев В.Ш.
,
Рыхлицкий С.В.
,
Швец В.А.
,
Спесивцев Е.В.
Оптические свойства пленок HfO(2x)Nx и TiO(2x)Nx, полученных методом ионно-лучевого распыления
Оптика и спектроскопия. 2009.
Т.106. №1. С.77-82.
РИНЦ
|
22
|
Ramana C.V.
,
Utsunomiya S.
,
Ewing R.
,
Becker U.
,
Atuchin V.V.
,
Aliev V.S.
,
Kruchinin V.N.
Spectroscopic Ellipsometry Characterization of the Optical Properties and Thermal Stability of Zr O2 Films Made by Ion-Beam Assisted Deposition
Applied Physics Letters. 2008.
V.92. N1. P.011917. DOI: 10.1063/1.2811955
WOS
Scopus
РИНЦ
|
23
|
Shvets V.A.
,
Aliev V.S.
,
Gritsenko D.V.
,
Shaimeev S.S.
,
Fedosenko E.V.
,
Rykhlitski S.V.
,
Atuchin V.V.
,
Gritsenko V.A.
,
Tapilin V.M.
,
Wong H.
Electronic Structure and Charge Transport Properties of Amorphous Ta2O5 Films
Journal of Non-Crystalline Solids. 2008.
V.354. N26. P.3025-3033. DOI: 10.1016/j.jnoncrysol.2007.12.013
WOS
Scopus
РИНЦ
|
24
|
Atuchin V.V.
,
Aliev V.S.
,
Kruchinin V.N.
,
Ramana C.V.
Optical Properties and Micromorphology of ZrO2/Si Films Created by Ion Beam Sputtering Deposition
Фундаментальные проблемы современного материаловедения. 2007.
V.4. N3. P.62-65.
РИНЦ
|
25
|
Gritsenko V.
,
Gritsenko D.
,
Shaimeev S.
,
Aliev V.
,
Nasyrov K.
,
Erenburg S.
,
Tapilin V.
,
Wong H.
,
Poon M.C.
,
Lee J.H.
,
Lee J.-W.
,
Kim C.W.
Atomic and Electronic Structures of Amorphous ZrO2 and HfO 2 Films
Microelectronic Engineering. 2005.
V.81. N2-4. P.524-529. DOI: 10.1016/j.mee.2005.03.056
WOS
Scopus
РИНЦ
|
26
|
Aliev V.S.
,
Baklanov M.R.
,
Bukhtiyarov V.I.
Silicon Surface Cleaning Using XeF2 Gas Treatment
Applied Surface Science. 1995.
V.90. N2. P.191-194. DOI: 10.1016/0169-4332(95)00072-0
WOS
Scopus
РИНЦ
|
27
|
Алиев В.Ш.
,
Бакланов М.Р.
,
Бухтияров В.И.
Исследование кинетики адсорбции XeF2 на поверхности Si(100) методом РФЭС
Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 1992.
№3. С.46-52.
РИНЦ
|