Электронно-лучевое модифицирование поверхности оксидных материалов (SiO2, BaTiO3) Full article
Journal |
Журнал физической химии
ISSN: 0044-4537 |
||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|
Output data | Year: 2002, Volume: 76, Number: 1, Pages: 84-89 Pages count : 6 | ||||||
Authors |
|
||||||
Affiliations |
|
Abstract:
Проанализировано изменение функционального состава поверхности (ПВ) оксидных материалов (аэросил-175, титанат бария) при их обработке ускоренными электронами. Установлен экстремальный характер зависимости содержания льюисовских и бренстедовских активных центров и их взаимных превращений от поглощенной дозы. Предположены возможные механизмы наблюдаемых изменений функционального состава ПВ, связанные со следующими последоват. структурными перестройками приповерхн. слоев по мере увеличения поглощенной дозы: расщепление на радикалы молекул физически сорбир. воды с последующим вовлечением в реакцию силоксановых групп и образованием гидроксилов при поглощенной дозе менее 100 кГр; дегидратация ПВ материала при большей поглощенной дозе. Показана возможность использования электронно-лучевой обработки для направленного и регулируемого модифицирования ПВ оксидных материалов
Cite:
Васильева И.В.
, Мякин С.В.
, Рылова Е.В.
, Корсаков В.Г.
Электронно-лучевое модифицирование поверхности оксидных материалов (SiO2, BaTiO3)
Журнал физической химии. 2002. Т.76. №1. С.84-89. РИНЦ
Электронно-лучевое модифицирование поверхности оксидных материалов (SiO2, BaTiO3)
Журнал физической химии. 2002. Т.76. №1. С.84-89. РИНЦ
ArticleLinkType.ORIGINAL_TO_TRANSLATED:
Vasil'eva I.V.
, Myakin S.V.
, Rylova E.V.
, Korsakov V.G.
Electron-Beam Modification of the Surface of Oxide Materials (SiO2 and BaTiO3)
Russian Journal of Physical Chemistry A. 2002. V.76. N1. P.71-76. WOS Scopus
Electron-Beam Modification of the Surface of Oxide Materials (SiO2 and BaTiO3)
Russian Journal of Physical Chemistry A. 2002. V.76. N1. P.71-76. WOS Scopus
Dates:
Submitted: | Aug 15, 2000 |
Published print: | Jan 1, 2002 |
Identifiers:
Elibrary | 44541330 |
Chemical Abstracts | 2002:439401 |
Chemical Abstracts (print) | 137:253443 |
publication.block.citing_info:
Пока нет цитирований