Плазмохимический синтез и свойства пленок карбонитрида кремния Full article
Journal |
Неорганические материалы
ISSN: 0002-337X |
||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|
Output data | Year: 2005, Volume: 41, Number: 7, Pages: 808-815 Pages count : 8 | ||||||
Authors |
|
||||||
Affiliations |
|
Funding (4)
1 | Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences | 114 |
2 | Russian Foundation for Basic Research | 03-03-32080 |
3 | Council for Grants of the President of the Russian Federation | НШ-1042.2003.3 |
4 | Council for Grants of the President of the Russian Federation | НШ-1129.2003.3 |
Abstract:
С использованием комплекса современных аналитических методов исследованы пленки карбонит-рида кремния, синтезированные из новых летучих высокоазотсодержащих силильных производных несимметричного диметилгидразина: (CH3)2HSiNHN(CH3)2 (ДМДМСГ) и M2Si(NHNM2)2 (бис-ДМГДМС). Показано, что для этих пленок характерны только связи Si-C, Si-N и C(sp3)-N. Их количественное соотношение зависит от молекулярной структуры исходного вещества и условий синтеза. Отношение Si-C/[Si-N + C(.sp3)-N] выше в пленках, полученных из ДМДМСГ. Образование связи C(sp3)-N, характерной для сверхтвердых фаз, подтверждено комплексом спектроскопических данных, которые в совокупности указывают на то, что пленки представляют собой сложную каркасную структуру, а не смесь фаз Si3N4, SiC и C3N4. На структуру пленки оказывает влияние соотношение N/Si в молекуле исходного вещества: при N/Si = 2 формируется аморфная пленка с нано-кристаллическими включениями тетрагональной структуры, а при N/Si = 4 образуется чисто аморфный материал. Возможность варьирования химического состава и структуры слоев позволила получить слои с различными физико-химическими и электрофизическими свойствами.
Cite:
Смирнова Т.П.
, Бадалян А.М.
, Борисов В.О.
, Каичев В.В.
, Бахтурова Л.Ф.
, Кичай В.Н.
, Рахлин В.И.
, Шаинян Б.А.
Плазмохимический синтез и свойства пленок карбонитрида кремния
Неорганические материалы. 2005. Т.41. №7. С.808-815. RSCI РИНЦ
Плазмохимический синтез и свойства пленок карбонитрида кремния
Неорганические материалы. 2005. Т.41. №7. С.808-815. RSCI РИНЦ
ArticleLinkType.ORIGINAL_TO_TRANSLATED:
Smirnova T.P.
, Badalyan A.M.
, Borisov V.O.
, Kaichev V.V.
, Bakhturova L.F.
, Kichai V.N.
, Rakhlin V.I.
, Shainyan B.A.
Plasma Deposition and Properties of Silicon Carbonitride Films
Inorganic Materials. 2005. V.41. N7. P.706-712. DOI: 10.1007/s10789-005-0195-9 WOS Scopus РИНЦ
Plasma Deposition and Properties of Silicon Carbonitride Films
Inorganic Materials. 2005. V.41. N7. P.706-712. DOI: 10.1007/s10789-005-0195-9 WOS Scopus РИНЦ
Dates:
Submitted: | Feb 7, 2005 |
Published print: | Jul 1, 2005 |
Identifiers:
RSCI | RSCI:9152220 |
Elibrary | 9152220 |
publication.block.citing_info:
БД | Цитирований |
---|---|
Elibrary | 3 |