К вопросу о механизме влияния поля на каталитическую активность тонких полупроводниковых пленок, нанесенных на стекло "пирекс" Full article
Journal |
Кинетика и катализ
ISSN: 0453-8811 |
||
---|---|---|---|
Output data | Year: 1983, Volume: 24, Number: 2, Pages: 418-421 Pages count : 4 | ||
Tags | полупроводники, пленки, катализаторы, влияние электрического поля | ||
Authors |
|
||
Affiliations |
|
Abstract:
На основании рассмотрения электронных и ионных процессов, протекающих в системе металл-стекло-полупроводник при приложении к пластинам конденсатора внешней разности потенциалов показано, что механизм влияния поля на хемосорбционную и каталитическую активность полупроводниковой пленки определяется индуцированием электронов в пленку в начальный момент действия поля и электромиграцией ионов Na при больших временах действия поля. Обратимость взаимодействия атомов натрия Na с TiO2 и ZnO дает возможность управлять каталитической активностью полупроводника приложением внешнего электрического поля.
Cite:
Михеева Э.П.
, Девятов В.Г.
, Колчанова В.М.
К вопросу о механизме влияния поля на каталитическую активность тонких полупроводниковых пленок, нанесенных на стекло "пирекс"
Кинетика и катализ. 1983. Т.24. №2. С.418-421. РИНЦ
К вопросу о механизме влияния поля на каталитическую активность тонких полупроводниковых пленок, нанесенных на стекло "пирекс"
Кинетика и катализ. 1983. Т.24. №2. С.418-421. РИНЦ
Translated:
Mikheeva E.P.
, Devyatov V.G.
, Kolchanova V.M.
Mechanism of the Influence of Fields on the Catalytic Activity of Thin Semiconducting-Films Supported on Pyrex Glass
Kinetics and Catalysis. 1983. V.24. N2. P.352-355. WOS
Mechanism of the Influence of Fields on the Catalytic Activity of Thin Semiconducting-Films Supported on Pyrex Glass
Kinetics and Catalysis. 1983. V.24. N2. P.352-355. WOS
Dates:
Submitted: | Mar 23, 1981 |
Published print: | Mar 1, 1983 |
Identifiers:
Elibrary | 47489681 |
Chemical Abstracts | 1983:411529 |
Chemical Abstracts (print) | 99:11529 |
Citing:
DB | Citing |
---|---|
Elibrary | 1 |