Deposition and Characterization of Alternative Dielectrics on the HfO2 Base for Nanoelectronics of New Generation Conference Abstracts
Conference |
I Международный форум по нанотехнологиям 04-05 Dec 2008 , Москва |
||||
---|---|---|---|---|---|
Source | Rusnanotech-2008. Nanotechnology International Forum. Abstracts. Scientific and Technological Sections. Volume 1, 2 Compilation, RUSNANO. Moscow.2008. |
||||
Output data | Year: 2008, Volume: 1, Pages: 60-62 Pages count : 2 | ||||
Authors |
|
||||
Affiliations |
|
Funding (1)
1 | Council for Grants of the President of the Russian Federation | НШ-636.2008.3 |
Cite:
Smirnova T.P.
, Kuznetsov F.A.
, Yakovkina L.V.
, Kaichev V.V.
, Kosyakov V.I.
, Lebedev M.S.
, Kichai V.N.
Deposition and Characterization of Alternative Dielectrics on the HfO2 Base for Nanoelectronics of New Generation
In compilation Rusnanotech-2008. Nanotechnology International Forum. Abstracts. Scientific and Technological Sections. Volume 1, 2. – RUSNANO., 2008. – C.60-62.
Deposition and Characterization of Alternative Dielectrics on the HfO2 Base for Nanoelectronics of New Generation
In compilation Rusnanotech-2008. Nanotechnology International Forum. Abstracts. Scientific and Technological Sections. Volume 1, 2. – RUSNANO., 2008. – C.60-62.
Translated:
Смирнова Т.П.
, Кузнецов Ф.А.
, Яковкина Л.В.
, Каичев В.В.
, Косяков В.И.
, Лебедев М.С.
, Кичай В.Н.
Получение и характеризация альтернативных диэлектриков на основе HfO2 для наноэлектроники нового поколения
In compilation Международный форум по нанотехнологиям: Сб. тез. докл. участников Международного конкурса научных работ молодых ученых в области нанотехнологий, 3-5 декабря 2008 г.. 2008.
Получение и характеризация альтернативных диэлектриков на основе HfO2 для наноэлектроники нового поколения
In compilation Международный форум по нанотехнологиям: Сб. тез. докл. участников Международного конкурса научных работ молодых ученых в области нанотехнологий, 3-5 декабря 2008 г.. 2008.
Identifiers:
No identifiers
Citing:
Пока нет цитирований