Плазмохимический газофазный процесс осаждения пленок карбонитрида кремния из летучих силильных производных несимметричного диметилгидразина | Sciact - CRIS-система Института катализа

Плазмохимический газофазный процесс осаждения пленок карбонитрида кремния из летучих силильных производных несимметричного диметилгидразина Научная публикация

Конференция

3 Международный симпозиум по теоретической и прикладной плазмохимии
16-21 сент. 2002 , Плес

Журнал

Химия высоких энергий

Вых. Данные

Год: 2003, Том: 37, Номер: 5, Страницы: 348-354 Страниц : 7

Авторы

Смирнова Т.П. ¹ , Бадалян А.М. ¹ , Борисов В.О. ¹ , Яковкина Л.В. ¹ , Каичев В.В. ² , Шмаков А.Н. ² , Нартова А.В. ² , Рахлин В.И. ³ , Фомина А.Н. ³

Организации

1	Институт неорганической химии им. А.В. Николаева Сибирского отделения Российской Академии наук, 630090, Новосибирск, просп. Акад. Лаврентьева, 3
2	Институт катализа им. Г.К. Борескова Сибирского отделения Российской Академии наук, 630090, Новосибирск, просп. Акад. Лаврентьева, 5
3	Институт химии им. А.Е. Фаворского Сибирского отделения Российской Академии наук, 664029, Иркутск, ул. Фаворского, 1

Информация о финансировании (2)

1	Сибирское отделение Российской академии наук	114
2	Российский фонд фундаментальных исследований	03-03-32080

Плазмохимическим осаждением из газовой фазы синтезированы пленки карбонитрида кремния из новых летучих веществ-предшественников. На основе детального исследования морфологии поверхности пленок обнаружено, что материал слоя представляет собой аморфную матрицу с включенными наноразмерными кристаллами. Расчет структуры кристаллической фазы по рентгеновским дифрактограммам синхротронного излучения показал, что вся совокупность обнаруженных дифракционных пиков описывается тетрагональной структурой с постоянными решетки а = 9.6 и с = 6.4 Å. Это хорошо согласуется с тем, что в рентгенофотоэлектронных спектрах остовных уровней 1s углерода и 1s азота выявлено только наличие sр3-типа связывания, ожидаемого для сверхтвердых фаз нитрида углерода.

Смирнова Т.П. , Бадалян А.М. , Борисов В.О. , Яковкина Л.В. , Каичев В.В. , Шмаков А.Н. , Нартова А.В. , Рахлин В.И. , Фомина А.Н.
Плазмохимический газофазный процесс осаждения пленок карбонитрида кремния из летучих силильных производных несимметричного диметилгидразина
Химия высоких энергий. 2003. Т.37. №5. С.348-354. РИНЦ

Smirnova T.P. , Badalyan A.M. , Borisov V.O. , Yakovkina L.V. , Kaichev V.V. , Shmakov A.N. , Nartova A.V. , Rakhlin V.I. , Fomina A.N.
Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of Silicon Carbonitride Films from Volatile Silyl Derivatives of 1,1-Dimethylhydrazine
High Energy Chemistry. 2003. V.37. N5. P.303-309. DOI: 10.1023/A:1025700829352 WOS Scopus РИНЦ CAPlusCA OpenAlex

Поступила в редакцию:

18 нояб. 2002 г.

РИНЦ:

17303155

БД	Цитирований
РИНЦ	9