Sciact
  • EN
  • RU

Влияние условий осаждения слоев в импульсном MO CVD методе на характеристики пленок HfO2 Тезисы доклада

Конференция Третий семинар по проблемам химического осаждения из газовой фазы
23-27 июн. 2013 , Иркутск
Сборник Программа и тезисы докладов «Третьего семинара по проблемам химического осаждения из газовой фазы»
Сборник, ИНХ СО РАН. Новосибирск.2013. 70 c.
Вых. Данные Год: 2013, Страницы: 58 Страниц : 1
Авторы Шевцов Ю.В. 1 , Васильева И.Г. 1 , Почтарь А.А. 2 , Кучумов Б.М. 1 , Игуменов И.К. 1
Организации
1 Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН, Новосибирск, Россия
2 Институт катализа им. Г.К. Борескова СО РАН, Новосибирск, Россия

Реферат: Рассмотрены процессы осаждения слоев HfO2 из металлорганического прекурсора дипивалоилметаната гафния – Hf(dpm)4 на установке Pulse MO CVD с дискретной дозировкой газовой фазы. Работа проводилась с целью изучения условий образования наноразмерных функциональных слоев HfO2 в системах с высоким аспектным отношением. Проводились эксперименты по осаждению слоев на реальных системах (микроканальные пластины) и на модельных (плоские щелевые структуры). Осаждение слоев проводилось при температурах нагрева подложки в диапазоне от 350 до 450 °С с различным количеством циклов осаждения. В качестве газа-реактанта для получения оксидного слоя использовался кислород и водяной пар. Химический состав осажденных пленок был исследован методом дифференцирующего растворения (химический метод фазового анализа). Установлено, что полученные пленки не совсем однородны, и могут содержать некоторое количество соединения Hf растворяющегося в 0.1N HCl нагретой до 80 °C, тогда как оставшаяся его часть растворяется в 0.01N HF, т.е. в более жестких условиях. Пленки осажденные в различных условиях содержат различное количество соединения Hf растворяющегося в 0.1N HCl. Легко растворимая часть пленки является относительно другой более реакционно-способной, что может быть связано с наличием низкоразмерных зерен, сильно разупорядоченных из-за кислородной нестехиометрии. Для выяснения природы реактивной фазы была изучена поверхность пленок, as-grown, так и после избирательного удаления легко растворимой части оксида. Полученные слои HfO2 были исследованы методами сканирующей электронной микроскопии, рентгенофазового анализа, фотоэлектронной спектроскопии.
Библиографическая ссылка: Шевцов Ю.В. , Васильева И.Г. , Почтарь А.А. , Кучумов Б.М. , Игуменов И.К.
Влияние условий осаждения слоев в импульсном MO CVD методе на характеристики пленок HfO2
В сборнике Программа и тезисы докладов «Третьего семинара по проблемам химического осаждения из газовой фазы». – ИНХ СО РАН., 2013. – C.58.
Идентификаторы БД: Нет идентификаторов
Цитирование в БД: Пока нет цитирований