Reactive Sputtering Deposition and Photocatalytic Activity of TiOxNy Thin Films | Sciact - CRIS-system of Boreskov Institute of Catalysis

Reactive Sputtering Deposition and Photocatalytic Activity of TiOxNy Thin Films Conference Abstracts

Conference

9th International Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows
21-26 Sep 2008 , Tomsk

Source

9th International Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows (9th CMM)
Compilation, ТПУ. Томск.2008. 719 c. ISBN 9785944580900. РИНЦ

Output data

Year: 2008, Pages: 612-613 Pages count : 2

Authors

Kruchinin V.N. ¹ , Kalinkin A.V. ¹ , Vorontsov A.V. ¹ , Aliev V.Sh. ¹ , Atuchin V.V. ² , Mogilnikov K.P. ²

Affiliations

1	Texture Research Laboratory, Laboratory of Surface Science, Institute of Catalysis SB RAS, 5, Lavrentieva ave., Novosibirsk, 630090, Russia
2	Laboratory of Physical Chemistry of Semiconductor Surface and Semiconductor - Dielectric Systems, Laboratory of Optical Materials and Structures, Institute of Semiconductor Physics SB RAS, 13, Lavrentieva ave., Novosibirsk, 630090, Russia

На Si-подложки наносили тонкие пленки TiO[x]N[y] путем распыления ионным пучком Ti-мишени в газовых смесях N[2]/O[2] (от 0 до 1). Методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии показано, что азот в пленках содержится в двух состояниях, одно из которых (энергия связи электронов N1s-оболочки равна 'ЭКВИВ'396,3 эВ) приписано химическим связям Ti-N. Пленки проявляют фотокаталитическую активность в окислении ацетона.

Kruchinin V.N. , Kalinkin A.V. , Vorontsov A.V. , Aliev V.S. , Atuchin V.V. , Mogilnikov K.P.
Reactive Sputtering Deposition and Photocatalytic Activity of TiOxNy Thin Films
In compilation 9th International Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows (9th CMM). – ТПУ., 2008. – C.612-613. – ISBN 9785944580900.

No identifiers

Пока нет цитирований