Термическая стабильность тонких аморфных пленок ZrO2/Si, полученных ионно-лучевого распыления с ассистированием | Sciact - CRIS-system of Boreskov Institute of Catalysis

Термическая стабильность тонких аморфных пленок ZrO2/Si, полученных ионно-лучевого распыления с ассистированием Conference Abstracts

Conference

Вторая Всероссийская конференция по наноматериалам
13-16 Mar 2007 , Новосибирск

Source

Тезисы докладов Второй Всероссийской конференции по наноматериалам (НАНО-2007). V Международный научный семинар «Наноструктурные материалы: Беларусь – Россия»
Compilation, 2007. 509 c.

Output data

Year: 2007, Pages: 103 Pages count : 1

Authors

Атучин В.В. ¹ , Алиев В.Ш. ² , Кручинин В.Н. ³ , Покровский Л.Д. ¹ , Рамана С.В. ⁴

Affiliations

1	Лаборатория оптических материалов и структур, Институт физики полупроводников СО РАН, Новосибирск, 630090, Россия
2	Лаборатория физической химии поверхности полупроводников и систем полупроводник-диэлектрик, Институт физики полупроводников СО РАН , Новосибирск, 630090, Россия
3	Лаборатория исследования поверхности, Институт катализа СО РАН, Новосибирск, 630090, Россия
4	Группа наноструктурных исследований, Геологический факультет, Университет Мичигана, Анн Арбор, Мичиган 48109, США

Атучин В.В. , Алиев В.Ш. , Кручинин В.Н. , Покровский Л.Д. , Рамана С.В.
Термическая стабильность тонких аморфных пленок ZrO2/Si, полученных ионно-лучевого распыления с ассистированием
In compilation Тезисы докладов Второй Всероссийской конференции по наноматериалам (НАНО-2007). V Международный научный семинар «Наноструктурные материалы: Беларусь – Россия». 2007. – C.103.

No identifiers

Пока нет цитирований