Влияние поверхностных трещин и текстуры на остаточные напряжения в вольфраме после воздействия плазмы Full article
Journal |
Известия Российской академии наук. Серия физическая
ISSN: 0367-6765 |
||||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
Output data | Year: 2023, Volume: 87, Number: 5, Pages: 692-695 Pages count : 4 DOI: 10.31857/S0367676522701113 | ||||||||
Authors |
|
||||||||
Affiliations |
|
Abstract:
Исследованы вольфрамовые образцы, облученные электронным пучком на установке BETA с целью моделирования плазменного взаимодействия в вакуумной камере термоядерного реактора. Методы рентгеновской дифракции использовались для измерения остаточных напряжений на вольфрамовых образцах, в том числе изготовленных по спецификациям ИТЭР.
https://sciencejournals.ru/pdf-viewer/pdf-viewer.html?j=izvfiz&y=2023&v=87&n=5&a=IzvFiz2270111Balash
Cite:
Балаш И.И.
, Казанцев С.Р.
, Шмаков А.Н.
, Пиминов П.А.
, Борин В.М.
Влияние поверхностных трещин и текстуры на остаточные напряжения в вольфраме после воздействия плазмы
Известия Российской академии наук. Серия физическая. 2023. Т.87. №5. С.692-695. DOI: 10.31857/S0367676522701113 РИНЦ OpenAlex
Влияние поверхностных трещин и текстуры на остаточные напряжения в вольфраме после воздействия плазмы
Известия Российской академии наук. Серия физическая. 2023. Т.87. №5. С.692-695. DOI: 10.31857/S0367676522701113 РИНЦ OpenAlex
Translated:
Balash I.I.
, Kazantsev S.R.
, Shmakov A.N.
, Piminov P.A.
, Borin V.M.
Effect of Surface Cracks and Texture on Residual Stresses in Tungsten after Exposure to Plasma
Bulletin of the Russian Academy of Sciences: Physics. 2023. V.87. N5. P.611-614. DOI: 10.3103/s1062873822701775 Scopus РИНЦ AN OpenAlex
Effect of Surface Cracks and Texture on Residual Stresses in Tungsten after Exposure to Plasma
Bulletin of the Russian Academy of Sciences: Physics. 2023. V.87. N5. P.611-614. DOI: 10.3103/s1062873822701775 Scopus РИНЦ AN OpenAlex
Dates:
Submitted: | Nov 28, 2022 |
Accepted: | Jan 25, 2023 |
Identifiers:
Elibrary: | 50731697 |
OpenAlex: | W4394919024 |
Citing:
Пока нет цитирований