Effect of Surface Cracks and Texture on Residual Stresses in Tungsten after Exposure to Plasma Научная публикация
Журнал |
Bulletin of the Russian Academy of Sciences: Physics
ISSN: 1062-8738 , E-ISSN: 1934-9432 |
||||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
Вых. Данные | Год: 2023, Том: 87, Номер: 5, Страницы: 611-614 Страниц : 4 DOI: 10.3103/s1062873822701775 | ||||||||
Авторы |
|
||||||||
Организации |
|
Реферат:
Tungsten samples irradiated by an electron beam on a BETA generator are studied to model plasma heat loads in a vacuum chamber of a fusion reactor. The residual stresses in the irradiated samples, including those fabricated according to ITER specifications, are measured via X-ray diffraction.
Библиографическая ссылка:
Balash I.I.
, Kazantsev S.R.
, Shmakov A.N.
, Piminov P.A.
, Borin V.M.
Effect of Surface Cracks and Texture on Residual Stresses in Tungsten after Exposure to Plasma
Bulletin of the Russian Academy of Sciences: Physics. 2023. V.87. N5. P.611-614. DOI: 10.3103/s1062873822701775 Scopus РИНЦ CAPlus OpenAlex СКИФ ID
Effect of Surface Cracks and Texture on Residual Stresses in Tungsten after Exposure to Plasma
Bulletin of the Russian Academy of Sciences: Physics. 2023. V.87. N5. P.611-614. DOI: 10.3103/s1062873822701775 Scopus РИНЦ CAPlus OpenAlex СКИФ ID
Оригинальная:
Балаш И.И.
, Казанцев С.Р.
, Шмаков А.Н.
, Пиминов П.А.
, Борин В.М.
Влияние поверхностных трещин и текстуры на остаточные напряжения в вольфраме после воздействия плазмы
Известия Российской академии наук. Серия физическая. 2023. Т.87. №5. С.692-695. DOI: 10.31857/S0367676522701113 РИНЦ OpenAlex СКИФ ID
Влияние поверхностных трещин и текстуры на остаточные напряжения в вольфраме после воздействия плазмы
Известия Российской академии наук. Серия физическая. 2023. Т.87. №5. С.692-695. DOI: 10.31857/S0367676522701113 РИНЦ OpenAlex СКИФ ID
Даты:
Поступила в редакцию: | 28 нояб. 2022 г. |
Опубликована в печати: | 23 мая 2023 г. |
Опубликована online: | 16 июн. 2023 г. |
Принята к публикации: | 25 авг. 2023 г. |
Идентификаторы БД:
Scopus: | 2-s2.0-85161996146 |
РИНЦ: | 54268802 |
Chemical Abstracts: | 2023:1257181 |
OpenAlex: | W4380881233 |
СКИФ ID: | 620 |