Рентгеновские дифракционные исследования процесса роста тонких пленок высокоэнтропийного сплава TiNbZrTaHfCu in situ с использованием синхротронного излучения
Научная публикация
| Журнал |
Физико-химические аспекты изучения кластеров, наноструктур и наноматериалов
ISSN: 2226-4442
, E-ISSN: 2658-4360
|
| Вых. Данные |
Год: 2024,
Номер: 16,
Страницы: 140-153
Страниц
: 14
DOI:
10.26456/pcascnn/2024.16.140
|
| Ключевые слова |
high-entropy alloy, refractory metals, synchrotron radiation, phase composition, copper alloying; высокоэнтропийный сплав, тугоплавкие металлы, синхротронное излучение, фазовый состав, легирование медью |
| Авторы |
Иванов Ю.Ф.
1
,
Ахмадеев Ю.Х.
1
,
Клопотов А.А.
2
,
Прокопенко Н.А.
1
,
Петрикова Е.А.
1
,
Крысина О.В.
1
,
Шугуров В.В.
1
,
Шмаков А.Н.
3
,
Лавров В.Ю.
2
|
| Организации |
| 1 |
ФГБУН «Институт сильноточной электроники» Сибирского отделения РАН, 634055, Россия, Томская область, Томск, пр-т Академический, 2/3
|
| 2 |
ФГБОУВО «Томский государственный архитектурно-строительный университет», 634003, Россия, Томская область, Томск, пл. Соляная, 2
|
| 3 |
ФГБУН «Институт катализа им. Г.К. Борескова» Сибирского отделения РАН, 630090, Россия, Новосибирская область, Новосибирск, пр-т академика Лаврентьева, 5
|
|
Информация о финансировании (1)
|
1
|
Министерство науки и высшего образования Российской Федерации (с 15 мая 2018)
|
075-15-2021-1348
|
Высокоэнтропийные сплавы на основе тугоплавких металлов, обладающие необычным сочетанием физико-механических, трибологических, электрофизических и т. д. свойств, могут быть рекомендованы для использования в различных областях промышленности и медицины. Целью работы является исследование процесса роста пленок высокоэнтропийных сплавов системы Ti-Nb-Zr-Ta-Hf-Cu в режиме реального времени методом рентгенофазового анализа с использованием синхротронного излучения. Эксперименты по нанесению многоэлементных пленок металлов проводили на установке ВЭИПС-1, разработанной в Институте сильноточной электроники Сибирского отделения Российской академии наук для исследования процессов формирования пленок и покрытий на источнике синхротронного излучения. Процесс формирования структуры тонких пленок in situ с высоким временным разрешением изучали, используя источник синхротронного излучения - накопитель электронов ВЭПП-3 (Институт ядерной физики Сибирского отделения Российской академии наук). Показано, что осаждение на подложку ВК8 плазмы состава Ti-Nb-Zr-Ta-Hf-Cu сопровождается формированием аморфно-кристаллического состояния, представленного фазами состава (предположительно) Ti-Nb-Zr-Ta-Hf-Cu , TiZr , NbZr и CuTiZr , формирующимися на различных этапах напыления пленки. Основной является фаза состава Ti-Nb-Zr-Ta-Hf-Cu .