Structural Study of Nickel-Containing thin MOCVD Films Prepared from New Type of Precursors by XAFS - Доклады на конференциях | Sciact - CRIS-система Института катализа

Structural Study of Nickel-Containing thin MOCVD Films Prepared from New Type of Precursors by XAFS Доклады на конференциях

Язык

Английский

Тип доклада

Стендовый

Конференция

XIX Национальная конференция по использованию Синхротронного Излучения
25-28 июн. 2012 , Новосибирск

Авторы

Доровских Светлана Игоревна ¹ , Морозова Наталья Борисовна ¹ , Якимчук Евгений Петрович ² , Кривенцов Владимир Владимирович ²

Организации

1	Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН
2	Институт катализа им. Г.К. Борескова СО РАН

Dorovskikh S.I. , Morozova N.B. , Yakimchuk E.P. , Kriventsov V.V.
Structural Study of Nickel-Containing thin MOCVD Films Prepared from New Type of Precursors by XAFS
XIX Национальная конференция по использованию Синхротронного Излучения 25-28 Jun 2012