Влияние условий осаждения слоев в импульсном MO CVD методе на характеристики пленок HfO2 - Доклады на конференциях | Sciact - CRIS-система Института катализа

Влияние условий осаждения слоев в импульсном MO CVD методе на характеристики пленок HfO2 Доклады на конференциях

Язык

Русский

Тип доклада

Устный

Конференция

Третий семинар по проблемам химического осаждения из газовой фазы
23-27 июн. 2013 , Иркутск

Авторы

Шевцов Юрий Владимирович ¹ , Васильева Инга Григорьевна ¹ , Почтарь Алена Анатольевна ² , Кучумов Борис Максимович ¹ , Игуменов Игорь Константинович ¹

Организации

1	Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН
2	Институт катализа им. Г.К. Борескова СО РАН

Шевцов Ю.В. , Васильева И.Г. , Почтарь А.А. , Кучумов Б.М. , Игуменов И.К.
Влияние условий осаждения слоев в импульсном MO CVD методе на характеристики пленок HfO2
Третий семинар по проблемам химического осаждения из газовой фазы 23-27 июн. 2013