Технология получения пленок и слоев теллура с высоким структурным совершенством и их электрофизические свойства Доклады на конференциях
Язык | Русский | ||||
---|---|---|---|---|---|
Тип доклада | Стендовый | ||||
Конференция |
XIV Российская конференция по физике полупроводников 09-13 сент. 2019 , Новосибирск, Сосновка |
||||
Авторы |
|
||||
Организации |
|
Реферат:
Теллур (Те) – элементарный полупроводник, обладающий уникальными физическими свой-ствами (дихроизм межзонного и внутризонного поглощения, прозрачность в инфракрасной обла-сти (4−20 µm), пьезоактивность, большой коэффициент акустооптического качества, фотопрово-димость, нелинейные оптические свойства). Термовакуумный метод получения пленок является первым и до сих пор наиболее часто используемым для синтеза пленок Те. Его главный недоста-ток состоит в том, что паровая фаза теллура почти целиком состоит из двухатомных молекул Te2, а не из атомов Te. Сравнительно низкие температуры подложки (T < Тпл= 450 0С) обусловливают низкую подвижность адсорбированных молекул Te2 на ростовой поверхности, в результате чего пленки теллура получаются мелкозернистыми и дефектными.
Нами предложен вариант термовакуумного напыления, в котором обеспечивается термо-химическая активация процесса кристаллизации теллура путем введения в систему водорода (H2). Согласно реакции Te + H2 = H2Te в системе появляется более легкая молекула H2Te, которая иг-рает главную роль в кинетике кристаллизации за счет диссоциативной адсорбции молекулы H2Te на водород и теллур на поверхности подложки. Рентгеновская дифрактограмма (рис.1 а) и спектр комбинационного рассеяния (рис.1 б) показывают, что полученные образцы (монокри-сталлические пленки и слои Те толщиной до 1 мм) по структурному совершенству не уступают объемным монокристаллическим образцам Те, полученным расплавными методами.
Представлены результаты исследований температурных зависимостей концентрации и по-движности носителей в пленках и слоях теллура, измеренные методом Холла в интервале темпе-ратур 80–473 К.
Работа выполнена при поддержке гранта РФФИ № 18-02-00808.
Библиографическая ссылка:
Кузьмин А.О.
, Исмаилов А.М.
, Рабаданов М.Р.
, Шапиев И.М.
, Алиев И.Ш.
Технология получения пленок и слоев теллура с высоким структурным совершенством и их электрофизические свойства
XIV Российская конференция по физике полупроводников 09-13 сент. 2019
Технология получения пленок и слоев теллура с высоким структурным совершенством и их электрофизические свойства
XIV Российская конференция по физике полупроводников 09-13 сент. 2019