Sciact
Toggle navigation
  • EN
  • RU

Разделы:

  • Статьи
  • Книги
  • Доклады на конференциях
  • Тезисы докладов
  • Патенты

Electronic Structure and Charge Transport Mechanism in a Forming-Free SiOx-Based Memristor Научная публикация

Общая информация Язык: Английский, Жанр: Статья (Full article),
Статус опубликования: Опубликована, Оригинальность: Оригинальная
Журнал Nanotechnology
ISSN: 0957-4484 , E-ISSN: 1361-6528
Вых. Данные Год: 2020, Том: 31, Номер: 50, Номер статьи : 505704, Страниц : 10 DOI: 10.1088/1361-6528/abb505
Ключевые слова memristor; SiOx; charge transport mechanism; electronic structure
Авторы Gismatulin Andrei A. 1 , Voronkovskii Vitalii A. 1 , Kamaev Gennadiy N. 1 , Novikov Yuriy N. 1 , Kruchinin Vladimir N. 1 , Krivyakin Grigory K. 1 , Gritsenko Vladimir A. 1,2,3 , Prosvirin Igor P. 4 , Chin Albert 5
Организации
1 Rzhanov Institute of Semiconductor Physics SB RAS, 13 Lavrentiev Ave., 630090, Novosibirsk, Russia
2 Novosibirsk State University, 2 Pirogov Str., 630090, Novosibirsk, Russia
3 Novosibirsk State Technical University, 20 Marx Ave., Novosibirsk 630073, Russia
4 Boreskov Institute of Catalysis SB RAS, 5 Lavrentiev ave., 630090, Novosibirsk, Russia
5 National Chiao Tung University Hsinchu, 300, Taiwan

Информация о финансировании (3)

1 Российский научный фонд 18-49-08001 (АААА-А18-118030590007-2)
2 Ministry of Science and Technology 107-2923-E-009-001-MY3
3 Российский научный фонд 19-19-00286 (АААА-А19-119120490056-8)

Реферат: THe memristor is a key memory element for neuromorphic electronics and new generation flash memories. One of the most promising materials for memristor technology is silicon oxide SiOx, which is compatible with silicon-based technology. In this paper, the electronic structure and charge transport mechanism in a forming-free SiOx-based memristor fabricated with the plasma enhanced chemical vapor deposition method is investigated. The experimental current-voltage characteristics measured at different temperatures in high-resistance, low-resistance and intermediate states are compared with various charge transport theories. The charge transport in all states is limited by the space charge-limited current model. The trap parameters, responsible for the charge transport in a SiOx-based memristor in different states, are determined.
Библиографическая ссылка: Gismatulin A.A. , Voronkovskii V.A. , Kamaev G.N. , Novikov Y.N. , Kruchinin V.N. , Krivyakin G.K. , Gritsenko V.A. , Prosvirin I.P. , Chin A.
Electronic Structure and Charge Transport Mechanism in a Forming-Free SiOx-Based Memristor
Nanotechnology. 2020. V.31. N50. 505704 :1-10. DOI: 10.1088/1361-6528/abb505 WOS Scopus РИНЦ
Даты:
Поступила в редакцию: 12 мая 2020 г.
Принята к публикации: 3 сент. 2020 г.
Опубликована online: 2 окт. 2020 г.
Опубликована в печати: 11 дек. 2020 г.
Идентификаторы:
Web of science WOS:000575335400001
Scopus 2-s2.0-85092801616
РИНЦ 45214154
Chemical Abstracts 2020:2265767
Альметрики: