Sciact
  • EN
  • RU

Исследование влияния фтора на структуру и состав анодных оксидных слоев на InAs (111) Conference Abstracts

Conference VII Международная научно-техническая конференция INTERMATIC–2010
23-27 Nov 2010 , Москва
Journal Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения
Output data Year: 2010, Volume: 10, Number: 1-2, Pages: 204-206 Pages count : 3
Authors Черков А.Г. 1 , Валишева Н.А. 1 , Терещенко О.Е. 1 , Гутаковский А.К. 1 , Просвирин И.П. 2 , Левцова Т.А. 1
Affiliations
1 Институт Физики Полупроводников СО РАН
2 Институт Катализа СО РАН

Funding (1)

1 Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences 99

Abstract: В данной работе методом просвечивающей электронной микроскопии (ПЭМ) изучено влияние состава электролита на атомное строение границы раздела InAs/АОС и морфологию тонких (3-5нм) АОС. Проведено сравнение с составом АОС, который исследовали методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (РФЭС).
Cite: Черков А.Г. , Валишева Н.А. , Терещенко О.Е. , Гутаковский А.К. , Просвирин И.П. , Левцова Т.А.
Исследование влияния фтора на структуру и состав анодных оксидных слоев на InAs (111)
Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения. 2010. Т.10. №1-2. С.204-206. РИНЦ
Identifiers:
Elibrary: 15858848
Citing: Пока нет цитирований