Sciact
  • EN
  • RU

Suchy reforming metanu na katalizatorach nośnikowych zawierających nikiel jako przykład technologii ograniczającej poziom emisji gazów cieplarnianych Научная публикация

Журнал Przemysl Chemiczny
ISSN: 0033-2496 , E-ISSN: 2449-9951
Вых. Данные Год: 2019, Том: 98, Номер: 7, Страницы: 1158-1161 Страниц : 4 DOI: 10.15199/62.2019.7.26
Ключевые слова CO2; SYSTEMS; Ni
Авторы Adamski Andrzej 1 , Legutko Piotr 1 , Dziadek Katarzyna 1 , Michalik Marek 1 , Sadykov Vladislav A. 2,3
Организации
1 Uniwersytet Jagielloński, Kraków
2 Boreskov Institute of Catalysis
3 Novosibirsk State University

Реферат: Przedstawiono wyniki badań strukturalnych (XRD) oraz teksturalnych (BET i SEM) serii katalizatorów nośnikowych NiOx/CeO2-ZrO2 otrzymanych metodą syntezy ciągłej w warunkach nadkrytycznych. Badane próbki o zawartości nominalnej 10% mas. NiO i zmiennym składzie nośnika binarnego testowano w reakcji suchego reformingu metanu (DMR). Reakcja DMR, w trakcie której następuje konwersja CO2 i CH4 do gazu syntezowego (mieszanina CO i H2), jest w ostatnich latach intensywnie badana jako przykład efektywnej waloryzacji CO2. W toku przeprowadzonych badań potwierdzono dużą aktywność i stabilność próbek NiOx/CeO2-ZrO2 w reakcji DMR i sformułowano kilka praktycznych wskazówek co do możliwych ścieżek optymalizacji właściwości układu NiOx/CeO2-ZrO2.
Библиографическая ссылка: Adamski A. , Legutko P. , Dziadek K. , Michalik M. , Sadykov V.A.
Suchy reforming metanu na katalizatorach nośnikowych zawierających nikiel jako przykład technologii ograniczającej poziom emisji gazów cieplarnianych
Przemysl Chemiczny. 2019. Т.98. №7. С.1158-1161. DOI: 10.15199/62.2019.7.26 WOS Scopus РИНЦ CAPlus OpenAlex
Даты:
Поступила в редакцию: 23 мая 2019 г.
Опубликована в печати: 5 июл. 2019 г.
Опубликована online: 5 июл. 2019 г.
Идентификаторы БД:
Web of science: WOS:000487346500053
Scopus: 2-s2.0-85070588709
РИНЦ: 41626374
Chemical Abstracts: 2019:2130869
OpenAlex: W2960300836
Цитирование в БД:
БД Цитирований
Web of science 2
Scopus 2
РИНЦ 1
Альметрики: