Reactive Sputtering Deposition and Photocatalytic Activity of TiOxNy Thin Films | Sciact - CRIS-система Института катализа

Reactive Sputtering Deposition and Photocatalytic Activity of TiOxNy Thin Films Тезисы доклада

Конференция

9th International Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows
21-26 сент. 2008 , Tomsk

Сборник

9th International Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows (9th CMM)
Сборник, ТПУ. Томск.2008. 719 c. ISBN 9785944580900. РИНЦ

Вых. Данные

Год: 2008, Страницы: 612-613 Страниц : 2

Авторы

Kruchinin V.N. ¹ , Kalinkin A.V. ¹ , Vorontsov A.V. ¹ , Aliev V.Sh. ² , Atuchin V.V. ² , Mogilnikov K.P. ²

Организации

1	Texture Research Laboratory, Laboratory of Surface Science, Institute of Catalysis SB RAS, 5, Lavrentieva ave., Novosibirsk, 630090, Russia
2	Laboratory of Physical Chemistry of Semiconductor Surface and Semiconductor - Dielectric Systems, Laboratory of Optical Materials and Structures, Institute of Semiconductor Physics SB RAS, 13, Lavrentieva ave., Novosibirsk, 630090, Russia

На Si-подложки наносили тонкие пленки TiO[x]N[y] путем распыления ионным пучком Ti-мишени в газовых смесях N[2]/O[2] (от 0 до 1). Методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии показано, что азот в пленках содержится в двух состояниях, одно из которых (энергия связи электронов N1s-оболочки равна 'ЭКВИВ'396,3 эВ) приписано химическим связям Ti-N. Пленки проявляют фотокаталитическую активность в окислении ацетона.

Kruchinin V.N. , Kalinkin A.V. , Vorontsov A.V. , Aliev V.S. , Atuchin V.V. , Mogilnikov K.P.
Reactive Sputtering Deposition and Photocatalytic Activity of TiOxNy Thin Films
В сборнике 9th International Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows (9th CMM). – ТПУ., 2008. – C.612-613. – ISBN 9785944580900.

Нет идентификаторов

Пока нет цитирований