Abstract: Представлены результаты получения эпитаксиальных пленок теллура на подложках из слюды (мусковит) методом термического испарения Те в среде водорода. Образование молекул Н2Te в зоне тигля, их диффузия в зону подложки и термализация с ростовой поверхностью за счёт высокой теплопроводности водорода, диссоциативная ад- сорбция Н2Te на поверхности с последующей десорбцией H2 и накоплением атомарного теллура (Те) являются ключевыми особенностями процесса кристаллизации пленки на всех ее стадиях. Атомарный теллур способствует зарождению и росту жидкокапельных ориентированных зародышей при температурах подложки близких к температуре плавления теллура (450 оС). На стадии коалесценции жидко- фазных островков формируется «мозаика» островковой фазы, состоящая из пустот разных размеров, ограниченных кристаллографическими гранями. После формирования сплошной пленки начинается стадия автоэпитаксиального роста пленки, также реализуемая по островковому механизму пар-жидкость-кристалл (ПЖК-механизм). По структурному совершенству, полученные пленки и слои Те превосходят объемные монокристаллы и могут найти применение для изготовления приборных структур в области микро-, опто-, акустоэлектроники.

Cite: Рабаданов М.Р. , Шапиев И.М. , Кузьмин А.О. , Исмаилов А.М.
Механизм формирования эпитаксиальных пленок и слоев теллура с высоким структурным совершенством, получаемых термовакуумным напылением в среде водорода
Прикладная физика. 2021. №1. С.50-56. DOI: 10.51368/1996-0948-2021-1-50-56 Scopus РИНЦ OpenAlex

Files: Full text from publisher

Dates:

Submitted:	Nov 6, 2020
Published print:	Mar 1, 2021

Identifiers:

Scopus:	2-s2.0-85112446167
Elibrary:	44833482
OpenAlex:	W4245164347

Citing: Пока нет цитирований

Altmetrics: