Способ изготовления кремниевых рентгеношаблонов с использованием плазмохимического травления | Sciact - CRIS-system of Boreskov Institute of Catalysis

Способ изготовления кремниевых рентгеношаблонов с использованием плазмохимического травления Full article

Journal

Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования
ISSN: 1028-0960 , E-ISSN: 0207-3528

Output data

Year: 2020, Number: 8, Pages: 108-112 Pages count : 5 DOI: 10.31857/S1028096020080087

Tags

глубокая рентгеновская литография, поверхности, рентгеношаблоны, LIGA-технология

Authors

Генцелев А.Н. ¹ , Дульцев Ф.Н. ^2,3 , Гольденберг Б.Г. ¹ , Купер К.Э. ¹

Affiliations

1	Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера СО РАН
2	Новосибирский государственный университет
3	Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН

Описан простой способ изготовления кремниевых рентгеновских шаблонов (рентгеношаблонов) для глубокой рентгеновской литографии, проводимой с использованием экспонирующего излучения спектрального диапазона (0.5–7 Å). Данный способ базируется на операциях планарной кремниевой технологии, широко распространенной в производстве полупроводниковых приборов. Существенным отличием этого способа от ранее известных аналогов является то, что в нем при формировании несущей мембраны шаблона не применяется создание легированием стоп-слоя. В качестве исходной заготовки используется стандартная кремниевая пластина ориентации (100) и кремниевая несущая мембрана шаблона формируется на финишном этапе его изготовления посредством плазмохимического травления пластины с тыльной стороны на заданную глубину. Такой подход позволяет существенно упростить технологию изготовления несущей мембраны. Изготовленные таким способом кремниевые рентгеношаблоны характеризуются относительной простотой изготовления, радиационной и химической стойкостью, геометрической стабильностью, сравнительно высокими уровнями механической прочности и рентгенопрозрачности несущей мембраны, зависящими от ее толщины, которая может варьироваться в достаточно широких пределах ~2.5–50 мкм в зависимости от предназначения рентгеновских шаблонов, которые могут с успехом применяться и в LIGA-технологии.

Генцелев А.Н. , Дульцев Ф.Н. , Гольденберг Б.Г. , Купер К.Э.
Способ изготовления кремниевых рентгеношаблонов с использованием плазмохимического травления
Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2020. №8. С.108-112. DOI: 10.31857/S1028096020080087 РИНЦ OpenAlex

Gentselev A.N. , Dultsev F.N. , Goldenberg B.G. , Kuper K.E.
Method for Manufacturing Silicon X-Ray Masks Via Plasma Chemical Etching
Journal of Surface Investigation: X-Ray, Synchrotron and Neutron Techniques. 2020. V.14. N4. P.862-865. DOI: 10.1134/s1027451020040266 WOS Scopus РИНЦ ANCAN OpenAlex

Submitted:	Dec 29, 2019
Accepted:	Jan 31, 2020
Published print:	Jul 1, 2020

Elibrary:	43039694
OpenAlex:	W3046188035

Пока нет цитирований