Многопучковая рентгенолитография для формирования глубоких регулярных микроструктур | Sciact - CRIS-system of Boreskov Institute of Catalysis

Многопучковая рентгенолитография для формирования глубоких регулярных микроструктур Full article

Journal

Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования
ISSN: 1028-0960 , E-ISSN: 0207-3528

Output data

Year: 2016, Number: 1, Pages: 64–67 Pages count : 4 DOI: 10.7868/S0207352816010133

Tags

регулярные микроструктуры, многопучковая рентгенолитография, рентгеношаблоны, синхротронное излучение

Authors

Гольденберг Б.Г. ¹ , Лемзяков А.Г. ¹ , Зелинский А.Г. ² , Назьмов В.П. ¹ , Пиндюрин В.Ф. ¹

Affiliations

1	Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера СО РАН
2	Институт химии твердого тела и механохимии СО РАН

Представлен метод изготовления регулярных микроструктур с высоким аспектным отношением (например, рентгеновских решеток) посредством прямой многолучевой векторной записи в слоях резиста SU8. Для записи использован рентгеновский пучок с длинами волн излучения в диапазоне от 0.4 до 1.7 Å. Описаны особенности метода. В качестве готового продукта представлены образцы регулярных микроструктур из резиста SU8 и рентгеношаблоны с золотым покрытием.

Гольденберг Б.Г. , Лемзяков А.Г. , Зелинский А.Г. , Назьмов В.П. , Пиндюрин В.Ф.
Многопучковая рентгенолитография для формирования глубоких регулярных микроструктур
Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2016. №1. С.64–67. DOI: 10.7868/S0207352816010133 РИНЦ OpenAlex

Goldenberg B.G. , Lemzyakov A.G. , Zelinsky A.G. , Nazmov V.P. , Pindyurin V.F.
Multibeam X-ray Lithography to Form Deep Regular Microstructures
Journal of Surface Investigation: X-Ray, Synchrotron and Neutron Techniques. 2016. V.10. N1. P.92-95. DOI: 10.1134/s1027451016010134 WOS Scopus РИНЦ ANCAN OpenAlex

Submitted:	Mar 20, 2015
Published print:	Jan 1, 2016

Elibrary:	25344583
OpenAlex:	W4254054267

DB	Citing
OpenAlex	1