Рентгеновские дифракционные исследования процесса роста тонких пленок высокоэнтропийного сплава TiNbZrTaHfCu in situ с использованием синхротронного излучения | Sciact - CRIS-system of Boreskov Institute of Catalysis

Рентгеновские дифракционные исследования процесса роста тонких пленок высокоэнтропийного сплава TiNbZrTaHfCu in situ с использованием синхротронного излучения Full article

Journal

Физико-химические аспекты изучения кластеров, наноструктур и наноматериалов
ISSN: 2226-4442 , E-ISSN: 2658-4360

Output data

Year: 2024, Number: 16, Pages: 140-153 Pages count : 14 DOI: 10.26456/pcascnn/2024.16.140

Tags

high-entropy alloy, refractory metals, synchrotron radiation, phase composition, copper alloying; высокоэнтропийный сплав, тугоплавкие металлы, синхротронное излучение, фазовый состав, легирование медью

Authors

Иванов Ю.Ф. ¹ , Ахмадеев Ю.Х. ¹ , Клопотов А.А. ² , Прокопенко Н.А. ¹ , Петрикова Е.А. ¹ , Крысина О.В. ¹ , Шугуров В.В. ¹ , Шмаков А.Н. ³ , Лавров В.Ю. ²

Affiliations

1	ФГБУН «Институт сильноточной электроники» Сибирского отделения РАН, 634055, Россия, Томская область, Томск, пр-т Академический, 2/3
2	ФГБОУВО «Томский государственный архитектурно-строительный университет», 634003, Россия, Томская область, Томск, пл. Соляная, 2
3	ФГБУН «Институт катализа им. Г.К. Борескова» Сибирского отделения РАН, 630090, Россия, Новосибирская область, Новосибирск, пр-т академика Лаврентьева, 5

Funding (1)

Ministry of Science and Higher Education of the Russian Federation

075-15-2021-1348

Высокоэнтропийные сплавы на основе тугоплавких металлов, обладающие необычным сочетанием физико-механических, трибологических, электрофизических и т. д. свойств, могут быть рекомендованы для использования в различных областях промышленности и медицины. Целью работы является исследование процесса роста пленок высокоэнтропийных сплавов системы Ti-Nb-Zr-Ta-Hf-Cu в режиме реального времени методом рентгенофазового анализа с использованием синхротронного излучения. Эксперименты по нанесению многоэлементных пленок металлов проводили на установке ВЭИПС-1, разработанной в Институте сильноточной электроники Сибирского отделения Российской академии наук для исследования процессов формирования пленок и покрытий на источнике синхротронного излучения. Процесс формирования структуры тонких пленок in situ с высоким временным разрешением изучали, используя источник синхротронного излучения - накопитель электронов ВЭПП-3 (Институт ядерной физики Сибирского отделения Российской академии наук). Показано, что осаждение на подложку ВК8 плазмы состава Ti-Nb-Zr-Ta-Hf-Cu сопровождается формированием аморфно-кристаллического состояния, представленного фазами состава (предположительно) Ti-Nb-Zr-Ta-Hf-Cu , TiZr , NbZr и CuTiZr , формирующимися на различных этапах напыления пленки. Основной является фаза состава Ti-Nb-Zr-Ta-Hf-Cu .

Иванов Ю.Ф. , Ахмадеев Ю.Х. , Клопотов А.А. , Прокопенко Н.А. , Петрикова Е.А. , Крысина О.В. , Шугуров В.В. , Шмаков А.Н. , Лавров В.Ю.
Рентгеновские дифракционные исследования процесса роста тонких пленок высокоэнтропийного сплава TiNbZrTaHfCu in situ с использованием синхротронного излучения
Физико-химические аспекты изучения кластеров, наноструктур и наноматериалов. 2024. №16. С.140-153. DOI: 10.26456/pcascnn/2024.16.140 WOS РИНЦ OpenAlex

Submitted:	Sep 4, 2024
Accepted:	Oct 2, 2024

Web of science:	WOS:001382883600001
Elibrary:	75147591
OpenAlex:	W4405753330

Пока нет цитирований