Synthesis of Titanium Oxide Structures on Mesoporous Silicon Dioxide Surface by Molecular Layering Научная публикация
Журнал |
Colloid Journal of the Russian Academy of Sciences: Kolloidnyi Zhurnal
ISSN: 1061-933X , E-ISSN: 1608-3067 |
||||
---|---|---|---|---|---|
Вых. Данные | Год: 2011, Том: 73, Номер: 4, Страницы: 495-503 Страниц : 9 DOI: 10.1134/S1061933X11030069 | ||||
Ключевые слова | Molecular Layering; Colloid Journal;Mesopore Volume; Titanium Oxide Structure; Petersburg State Technological Institute | ||||
Авторы |
|
||||
Организации |
|
Информация о финансировании (2)
1 | Российский фонд фундаментальных исследований | 11-03-00397 |
2 | Министерство образования и науки Российской Федерации | P685 |
Реферат:
The formation of titanium oxide structures through the repeated successive treatment of SBA15 mesoporous silicon dioxide with vapors of TiCl4 and H2O at 200°C is investigated. The influence of the number of synthesis cycles on the character of the buildup of the surface titanium oxide structures and changes in the adsorption and structural characteristics of modified silica is shown.
Библиографическая ссылка:
Koshtyal Y.M.
, Malkov A.A.
, Malygin A.A.
, Shmakov A.N.
, Melʹgunov M.S.
Synthesis of Titanium Oxide Structures on Mesoporous Silicon Dioxide Surface by Molecular Layering
Colloid Journal of the Russian Academy of Sciences: Kolloidnyi Zhurnal. 2011. V.73. N4. P.495-503. DOI: 10.1134/S1061933X11030069 WOS Scopus РИНЦ CAPlusCA OpenAlex
Synthesis of Titanium Oxide Structures on Mesoporous Silicon Dioxide Surface by Molecular Layering
Colloid Journal of the Russian Academy of Sciences: Kolloidnyi Zhurnal. 2011. V.73. N4. P.495-503. DOI: 10.1134/S1061933X11030069 WOS Scopus РИНЦ CAPlusCA OpenAlex
Оригинальная:
Коштял Ю.М.
, Малков А.А.
, Малыгин А.А.
, Шмаков А.Н.
, Мельгунов М.С.
Синтез титаноксидных структур на поверхности мезопористого диоксида кремния методом молекулярного наслаивания
Коллоидный журнал. 2011. Т.73. №4. С.483-491. РИНЦ
Синтез титаноксидных структур на поверхности мезопористого диоксида кремния методом молекулярного наслаивания
Коллоидный журнал. 2011. Т.73. №4. С.483-491. РИНЦ
Даты:
Поступила в редакцию: | 6 авг. 2010 г. |
Опубликована в печати: | 1 авг. 2011 г. |
Опубликована online: | 3 авг. 2011 г. |
Идентификаторы БД:
Web of science: | WOS:000293468600008 |
Scopus: | 2-s2.0-80053604116 |
РИНЦ: | 18008451 |
Chemical Abstracts: | 2011:961277 |
Chemical Abstracts (print): | 156:564029 |
OpenAlex: | W2067351885 |