Состав и строение пленок оксида гафния на кремнии | Sciact - CRIS-system of Boreskov Institute of Catalysis

Состав и строение пленок оксида гафния на кремнии Full article

Journal

Неорганические материалы
ISSN: 0002-337X

Output data

Year: 2008, Volume: 44, Number: 9, Pages: 1086-1092 Pages count : 7

Authors

Смирнова Т.П. ¹ , Каичев В.В. ² , Яковкина Л.В. ¹ , Косяков В.И. ¹ , Белошапкин С.А. ³ , Кузнецов Ф.А. ¹ , Лебедев М.С. ¹ , Гриценко В.А. ⁴

Affiliations

1	Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО Российской академии наук, Новосибирск
2	Институт катализа им. Г.К. Борескова СО Российской академии наук, Новосибирск
3	Materials and Surface Science Institute, Limerick, Ireland
4	Институт физики полупроводников СО Российской академии наук, Новосибирск

Funding (3)

1	Council for Grants of the President of the Russian Federation	НШ-636.2008.3
2	Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences	97
3	Russian Foundation for Basic Research	05-03-32393

Методами эллипсометрии, электронной микроскопии и РФЭС показано, что в процессе синтеза пленок HfO2 на кремнии протекает реакция взаимодействия слоя собственного оксида кремния с осаждаемым слоем HfO2 c образованием аморфного промежуточного слоя. Показатель преломления этого слоя равен 1.6 и отличается от показателя преломления слоя HfO2 (1.9-2.0) и SiO2 (1.46). Проведено термодинамическое рассмотрение системы Si SiO2 HfO2 Hf, из которого следует, что только при небольших давлениях кислорода равновесной является композиция Si/HfO2-у. С увеличением давления кислорода (эквивалентно появлению слоя собственного оксида) равновесной становится композиция Si/HfSiO4/HfO2-у.

Смирнова Т.П. , Каичев В.В. , Яковкина Л.В. , Косяков В.И. , Белошапкин С.А. , Кузнецов Ф.А. , Лебедев М.С. , Гриценко В.А.
Состав и строение пленок оксида гафния на кремнии
Неорганические материалы. 2008. Т.44. №9. С.1086-1092. РИНЦ

Smirnova T.P. , Kaichev V.V. , Yakovkina L.V. , Kosyakov V.I. , Beloshapkin S.A. , Kuznetsov F.A. , Lebedev M.S. , Gritsenko V.A.
Composition and Structure of Hafnia Films on Silicon
Inorganic Materials. 2008. V.44. N9. P.965-970. DOI: 10.1134/S0020168508090124 WOS Scopus РИНЦ ANCAN OpenAlex

Submitted:

Oct 11, 2006

Elibrary:

11035814

DB	Citing
Elibrary	8