Sciact
  • EN
  • RU

Оптические свойства пленок HfO(2x)Nx и TiO(2x)Nx, полученных методом ионно-лучевого распыления Научная публикация

Журнал Оптика и спектроскопия
ISSN: 0030-4034
Вых. Данные Год: 2009, Том: 106, Номер: 1, Страницы: 77-82 Страниц : 6
Авторы Атучин В.В. 1 , Кручинин В.Н. 1 , Калинкин А.В. 1 , Алиев В.Ш. 2 , Рыхлицкий С.В. 2 , Швец В.А. 2 , Спесивцев Е.В. 2
Организации
1 Институт катализа им. Г.К. Борескова Сибирского отделения РАН, 630090 Новосибирск, Россия
2 Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения РАН, 630090 Новосибирск, Россия

Реферат: Методом спектральной эллипсометрии исследованы оптические характеристики пленок HfO(2x)Nx и TiO(2x)Nx, полученных методом реактивного ионно-лучевого распыления. Химический состав пленок определен с помощью рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (РФЭС). Содержание азота в пленках оксинитридов, определяемое соотношением N2/O2 в газовой смеси при синтезе, достигало 9 ат. % для TiO(2x)Nx и 6 ат. % для HfO(2x)Nx. Обнаружено, что дисперсионные зависимости n( ) и k( ) в пленках TiO(2x)Nx при увеличении содержания азота от 0 до 9 ат. % изменяются от характерных для диоксида титана до характерных для нитрида титана. Оптические параметры пленок HfO(2x)Nx слабо зависят от содержания азота в диапазоне 0-6 ат. %.
Библиографическая ссылка: Атучин В.В. , Кручинин В.Н. , Калинкин А.В. , Алиев В.Ш. , Рыхлицкий С.В. , Швец В.А. , Спесивцев Е.В.
Оптические свойства пленок HfO(2x)Nx и TiO(2x)Nx, полученных методом ионно-лучевого распыления
Оптика и спектроскопия. 2009. Т.106. №1. С.77-82. РИНЦ
Переводная: Atuchin V.V. , Kruchinin V.N. , Kalinkin A.V. , Aliev V.S. , Rykhlitskii S.V. , Shvets V.A. , Spesivtsev E.V.
Optical Properties of the HfO2 – xNx and TiO2 – xNx Films Prepared by Ion Beam Sputtering
Optics and Spectroscopy. 2009. V.106. N1. P.72-77. DOI: 10.1134/S0030400X09010093 WOS Scopus РИНЦ CAPlusCA OpenAlex
Даты:
Поступила в редакцию: 17 дек. 2007 г.
Принята к публикации: 29 авг. 2008 г.
Идентификаторы БД:
РИНЦ: 11663148
Цитирование в БД:
БД Цитирований
РИНЦ 5