Исследование кинетики адсорбции XeF2 на поверхности Si(100) методом РФЭС Научная публикация
| Журнал |
Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования
ISSN: 1028-0960 , E-ISSN: 0207-3528 |
||
|---|---|---|---|
| Вых. Данные | Год: 1992, Номер: 3, Страницы: 46-52 Страниц : 7 | ||
| Авторы |
|
||
| Организации |
|
Библиографическая ссылка:
Алиев В.Ш.
, Бакланов М.Р.
, Бухтияров В.И.
Исследование кинетики адсорбции XeF2 на поверхности Si(100) методом РФЭС
Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 1992. №3. С.46-52. РИНЦ CAPlusCA
Исследование кинетики адсорбции XeF2 на поверхности Si(100) методом РФЭС
Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 1992. №3. С.46-52. РИНЦ CAPlusCA
Даты:
| Поступила в редакцию: | 28 апр. 1990 г. |
| Принята к публикации: | 29 мая 1990 г. |
| Опубликована в печати: | 1 мар. 1992 г. |
Идентификаторы БД:
| РИНЦ: | 47561414 |
| Chemical Abstracts: | 1992:578922 |
| Chemical Abstracts (print): | 117:178922 |
Цитирование в БД:
Пока нет цитирований