Исследование кинетики адсорбции XeF2 на поверхности Si(100) методом РФЭС | Sciact - CRIS-system of Boreskov Institute of Catalysis

Исследование кинетики адсорбции XeF2 на поверхности Si(100) методом РФЭС Full article

Journal

Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования
ISSN: 1028-0960 , E-ISSN: 0207-3528

Output data

Year: 1992, Number: 3, Pages: 46-52 Pages count : 7

Authors

Алиев В.Ш ¹ , Бакланов М.Р. ¹ , Бухтияров В.И. ¹

Affiliations

1	Институт физики полупроводников СО Российской академии наук, Новосибирск

Алиев В.Ш. , Бакланов М.Р. , Бухтияров В.И.
Исследование кинетики адсорбции XeF2 на поверхности Si(100) методом РФЭС
Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 1992. №3. С.46-52. РИНЦ ANCAN

Submitted:	Apr 28, 1990
Accepted:	May 29, 1990
Published print:	Mar 1, 1992

Elibrary:	47561414
Chemical Abstracts:	1992:578922
Chemical Abstracts (print):	117:178922

Пока нет цитирований