Sciact
  • EN
  • RU

Multibeam X-ray Lithography to Form Deep Regular Microstructures Научная публикация

Журнал Journal of Surface Investigation: X-Ray, Synchrotron and Neutron Techniques
ISSN: 1027-4510 , E-ISSN: 1819-7094
Вых. Данные Год: 2016, Том: 10, Номер: 1, Страницы: 92-95 Страниц : 4 DOI: 10.1134/s1027451016010134
Ключевые слова multibeam X-ray lithography; regular microstructures; synchrotron radiation; X-ray masks
Авторы Goldenberg B.G. 1 , Lemzyakov A.G. 1 , Zelinsky A.G. 2 , Nazmov V.P. 1 , Pindyurin V.F. 1
Организации
1 Budker Institute of Nuclear Physics, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences, Novosibirsk, 630090 Russia
2 Institute of Solid State Chemistry and Mechanochemistry, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences, Novosibirsk, 630128 Russia

Реферат: A method for the fabrication of regular microstructures with a high aspect ratio (for example, X-ray gratings) by direct multibeam vector recording in layers of an SU-8 resist is presented. An X-ray beam with a wavelength from 0.4 to 1.7 Å is used for recording. The features of the method are described. The fabricated samples of regular microstructures of the SU-8 resist and gold-plated X-ray masks are presented as finished products.
Библиографическая ссылка: Goldenberg B.G. , Lemzyakov A.G. , Zelinsky A.G. , Nazmov V.P. , Pindyurin V.F.
Multibeam X-ray Lithography to Form Deep Regular Microstructures
Journal of Surface Investigation: X-Ray, Synchrotron and Neutron Techniques. 2016. V.10. N1. P.92-95. DOI: 10.1134/s1027451016010134 WOS Scopus РИНЦ CAPlusCA OpenAlex
Оригинальная: Гольденберг Б.Г. , Лемзяков А.Г. , Зелинский А.Г. , Назьмов В.П. , Пиндюрин В.Ф.
Многопучковая рентгенолитография для формирования глубоких регулярных микроструктур
Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2016. №1. С.64–67. DOI: 10.7868/S0207352816010133 РИНЦ OpenAlex
Даты:
Поступила в редакцию: 20 мар. 2015 г.
Опубликована в печати: 1 янв. 2016 г.
Опубликована online: 19 февр. 2016 г.
Идентификаторы БД:
Web of science: WOS:000378495100014
Scopus: 2-s2.0-84958743345
РИНЦ: 26859338
Chemical Abstracts: 2016:281056
Chemical Abstracts (print): 175:197083
OpenAlex: W2379729307
Цитирование в БД:
БД Цитирований
Web of science 9
Scopus 11
OpenAlex 11
Альметрики: