Многопучковая рентгенолитография для формирования глубоких регулярных микроструктур | Sciact - CRIS-система Института катализа

Многопучковая рентгенолитография для формирования глубоких регулярных микроструктур Научная публикация

Журнал

Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования
ISSN: 1028-0960 , E-ISSN: 0207-3528

Вых. Данные

Год: 2016, Номер: 1, Страницы: 64–67 Страниц : 4 DOI: 10.7868/S0207352816010133

Ключевые слова

регулярные микроструктуры, многопучковая рентгенолитография, рентгеношаблоны, синхротронное излучение

Авторы

Гольденберг Б.Г. ¹ , Лемзяков А.Г. ¹ , Зелинский А.Г. ² , Назьмов В.П. ¹ , Пиндюрин В.Ф. ¹

Организации

1	Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера СО РАН
2	Институт химии твердого тела и механохимии СО РАН

Представлен метод изготовления регулярных микроструктур с высоким аспектным отношением (например, рентгеновских решеток) посредством прямой многолучевой векторной записи в слоях резиста SU8. Для записи использован рентгеновский пучок с длинами волн излучения в диапазоне от 0.4 до 1.7 Å. Описаны особенности метода. В качестве готового продукта представлены образцы регулярных микроструктур из резиста SU8 и рентгеношаблоны с золотым покрытием.

Гольденберг Б.Г. , Лемзяков А.Г. , Зелинский А.Г. , Назьмов В.П. , Пиндюрин В.Ф.
Многопучковая рентгенолитография для формирования глубоких регулярных микроструктур
Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2016. №1. С.64–67. DOI: 10.7868/S0207352816010133 РИНЦ OpenAlex

Goldenberg B.G. , Lemzyakov A.G. , Zelinsky A.G. , Nazmov V.P. , Pindyurin V.F.
Multibeam X-ray Lithography to Form Deep Regular Microstructures
Journal of Surface Investigation: X-Ray, Synchrotron and Neutron Techniques. 2016. V.10. N1. P.92-95. DOI: 10.1134/s1027451016010134 WOS Scopus РИНЦ CAPlusCA OpenAlex

Поступила в редакцию:	20 мар. 2015 г.
Опубликована в печати:	1 янв. 2016 г.

РИНЦ:	25344583
OpenAlex:	W4254054267

БД	Цитирований
OpenAlex	1