Способ изготовления кремниевых рентгеношаблонов с использованием плазмохимического травления | Sciact - CRIS-система Института катализа

Способ изготовления кремниевых рентгеношаблонов с использованием плазмохимического травления Научная публикация

Журнал

Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования
ISSN: 1028-0960 , E-ISSN: 0207-3528

Вых. Данные

Год: 2020, Номер: 8, Страницы: 108-112 Страниц : 5 DOI: 10.31857/S1028096020080087

Ключевые слова

глубокая рентгеновская литография, поверхности, рентгеношаблоны, LIGA-технология

Авторы

Генцелев А.Н. ¹ , Дульцев Ф.Н. ^2,3 , Гольденберг Б.Г. ¹ , Купер К.Э. ¹

Организации

1	Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера СО РАН
2	Новосибирский государственный университет
3	Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН

Описан простой способ изготовления кремниевых рентгеновских шаблонов (рентгеношаблонов) для глубокой рентгеновской литографии, проводимой с использованием экспонирующего излучения спектрального диапазона (0.5–7 Å). Данный способ базируется на операциях планарной кремниевой технологии, широко распространенной в производстве полупроводниковых приборов. Существенным отличием этого способа от ранее известных аналогов является то, что в нем при формировании несущей мембраны шаблона не применяется создание легированием стоп-слоя. В качестве исходной заготовки используется стандартная кремниевая пластина ориентации (100) и кремниевая несущая мембрана шаблона формируется на финишном этапе его изготовления посредством плазмохимического травления пластины с тыльной стороны на заданную глубину. Такой подход позволяет существенно упростить технологию изготовления несущей мембраны. Изготовленные таким способом кремниевые рентгеношаблоны характеризуются относительной простотой изготовления, радиационной и химической стойкостью, геометрической стабильностью, сравнительно высокими уровнями механической прочности и рентгенопрозрачности несущей мембраны, зависящими от ее толщины, которая может варьироваться в достаточно широких пределах ~2.5–50 мкм в зависимости от предназначения рентгеновских шаблонов, которые могут с успехом применяться и в LIGA-технологии.

Генцелев А.Н. , Дульцев Ф.Н. , Гольденберг Б.Г. , Купер К.Э.
Способ изготовления кремниевых рентгеношаблонов с использованием плазмохимического травления
Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2020. №8. С.108-112. DOI: 10.31857/S1028096020080087 РИНЦ OpenAlex

Gentselev A.N. , Dultsev F.N. , Goldenberg B.G. , Kuper K.E.
Method for Manufacturing Silicon X-Ray Masks Via Plasma Chemical Etching
Journal of Surface Investigation: X-Ray, Synchrotron and Neutron Techniques. 2020. V.14. N4. P.862-865. DOI: 10.1134/s1027451020040266 WOS Scopus РИНЦ CAPlusCA OpenAlex

Поступила в редакцию:	29 дек. 2019 г.
Принята к публикации:	31 янв. 2020 г.
Опубликована в печати:	1 июл. 2020 г.

РИНЦ:	43039694
OpenAlex:	W3046188035

Пока нет цитирований