Sciact
  • EN
  • RU

Формирование высокоаспектных микроструктур на тетраакрилат/акриламидных мономерах под действием синхротронного излучения Научная публикация

Журнал Химия высоких энергий
Вых. Данные Год: 2019, Том: 53, Номер: 2, Страницы: 127–134 Страниц : 8 DOI: 10.1134/S0023119319020049
Ключевые слова акрилатные мономеры, акриламидные мономеры, полимеризация, рентгенолитография, рентгенорезист
Авторы Деревянко Д.И. 1 , Орлова Н.А. 1 , Шелковников В.В. 1,2 , Шундрина И.К. 1 , Гольденберг Б.Г. 3 , Корольков В.П. 4
Организации
1 Новосибирский институт органической химии им. Н.Н. Ворожцова СО РАН
2 Новосибирский государственный технический университет
3 Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера СО РАН
4 Институт автоматики и электрометрии СО РАН

Реферат: В работе получены фотополимерные материалы на основе новых полиакрильных мономеров акрилатного и смешанного акрилатно-акриламидного типов. Путем фотополимеризации получены сшитые пленки на основе синтезированных мономеров и проведено исследование термомеханических свойств сшитых пленок. Определены модули упругости фотополимерных пленок при комнатной температуре (1.3 и 1.5 ГПа) и температуре стеклования (82–93°С). Запись высокоаспектных микроструктур проведена с помощью синхротронного излучения на накопителе ВЭПП-3 (энергия электронов 2 ГэВ) станции LIGA в ИЯФ СО РАН. Выявлено, что под действием СИ с дозами 1–15 Дж/см3 происходит полимеризация мономеров. Получена зависимость толщины заданной микроструктуры от поглощенной дозы СИ и построена соответствующая характеристическая кривая. Получены микроструктуры с аспектным соотношением 1 : 25.
Библиографическая ссылка: Деревянко Д.И. , Орлова Н.А. , Шелковников В.В. , Шундрина И.К. , Гольденберг Б.Г. , Корольков В.П.
Формирование высокоаспектных микроструктур на тетраакрилат/акриламидных мономерах под действием синхротронного излучения
Химия высоких энергий. 2019. Т.53. №2. С.127–134. DOI: 10.1134/S0023119319020049 РИНЦ OpenAlex
Переводная: Derevyanko D.I. , Orlova N.A. , Shelkovnikov V.V. , Shundrina I.K. , Goldenberg B.G. , Korolkov V.P.
Fabrication of High-Aspect-Ratio Microstructures on Tetraacrylate/Acrylamide Monomers Using Synchrotron Radiation
High Energy Chemistry. 2019. V.53. N2. P.136-142. DOI: 10.1134/s0018143919020048 WOS Scopus РИНЦ CAPlusCA OpenAlex
Даты:
Поступила в редакцию: 9 апр. 2018 г.
Принята к публикации: 30 окт. 2018 г.
Опубликована в печати: 1 мар. 2019 г.
Идентификаторы БД:
РИНЦ: 36788795
OpenAlex: W2912523057
Цитирование в БД: Пока нет цитирований
Альметрики: