Аморфные пленки SiCx:H и SiCxNy:H, полученные из паров гексаметилдисилана | Sciact - CRIS-система Института катализа

Аморфные пленки SiCx:H и SiCxNy:H, полученные из паров гексаметилдисилана Научная публикация

Журнал

Журнал структурной химии
ISSN: 0136-7463

Вых. Данные

Год: 2024, Том: 65, Номер: 10, Номер статьи : 134149, Страниц : DOI: 10.26902/JSC_id134149

Ключевые слова

аморфные пленки SiCx:H и SiCxNy:H, ICP CVD, гексаметилдисилан, стабильность пленок, оптические свойства, оптическая эмиссионная спектроскопия

Авторы

Чагин М.Н. ¹ , Ермакова Е.Н. ¹ , Шаяпов В.Р. ¹ , Суляева В.С. ¹ , Юшина И.В. ¹ , Максимовский Е.А. ¹ , Дудкина С.П. ¹ , Сараев А.А. ² , Герасимов Е.Ю. ² , Могильников К.П. ³ , Колодин А.Н. ¹ , Косинова М.Л. ¹

Организации

1	Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН, Новосибирск, Россия
2	Институт катализа им. Г.К. Борескова СО РАН, Новосибирск, Россия
3	Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН, Новосибирск, Россия

Аморфные прозрачные пленки SiC x :H и SiC x N y :H синтезированы при температуре 200 °C и мощности разряда 200 Вт в реакторе с индуктивно-связанной плазмой ВЧ разряда при использовании паров гексаметилдисилана и дополнительных газов аргона и/или азота. Исследовано влияние скорости потока N2 на морфологию, химическое строение, элементный состав, коэффициент пропускания, показатель преломления, краевой угол смачивания и скорость осаждения пленок. Методом оптической эмиссионной спектроскопии определены компоненты плазмы. Методами ПЭМВР и ЭДС-картирования показано, что отожженный образец Cu/SiC x :H/Si(100) имеет четкие границы раздела подложка/пленка и пленка/слой меди, диффузии Cu не наблюдается, пленку SiC x :H можно рассматривать как перспективный диффузионно-барьерный слой. Изучена стабильность пленок при хранении в условиях окружающей среды. Методами ЭДС, ИК спектроскопии и РФЭС показана предрасположенность к окислению пленок SiC x N y :H, полученных в данном процессе.

Чагин М.Н. , Ермакова Е.Н. , Шаяпов В.Р. , Суляева В.С. , Юшина И.В. , Максимовский Е.А. , Дудкина С.П. , Сараев А.А. , Герасимов Е.Ю. , Могильников К.П. , Колодин А.Н. , Косинова М.Л.
Аморфные пленки SiCx:H и SiCxNy:H, полученные из паров гексаметилдисилана
Журнал структурной химии. 2024. Т.65. №10. 134149 . DOI: 10.26902/JSC_id134149 РИНЦ OpenAlex

Chagin M.N. , Ermakova E.N. , Shayapov V.R. , Sulyaeva V.S. , Yushina I.V. , Maksimovskiy E.A. , Dudkina S.P. , Saraev A.A. , Gerasimov E.Y. , Mogilnikov K.P. , Kolodin A.N. , Kosinova M.L.
SiCx:H and SiCxNy:H Amorphous Films Prepared from Hexamethyldisilane Vapors
Journal of Structural Chemistry. 2024. V.65. N10. P.2041-2057. DOI: 10.1134/S0022476624100147 WOS

Поступила в редакцию:	14 мая 2024 г.
Принята к публикации:	14 июн. 2024 г.

РИНЦ:	73881822
OpenAlex:	W4399755185

Пока нет цитирований