Sciact
  • EN
  • RU

Микроструктура и химическое связывание в пленках карбонитрида кремния, синтезированных методом плазмохимического осаждения из газовой фазы Научная публикация

Журнал Журнал структурной химии
ISSN: 0136-7463
Вых. Данные Год: 2003, Том: 44, Номер: 1, Страницы: 195-199 Страниц : 5
Ключевые слова карбонитрид кремния, пленки, рентгенофазовый анализ, микроструктура слоев.
Авторы Смирнова Т.П. 1 , Бадалян А.М. 1 , Борисов В.О. 1 , Яковкина Л.В. 1 , Каичев В.В. 2 , Шмаков А.Н. 2 , Нартова А.В. 2 , Рахлин В.И. 3 , Фомина А.Н. 3
Организации
1 Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН, Новосибирск
2 Институт катализа им. Г.К. Борескова СО РАН, Новосибирск
3 Институт химии им. А.Е. Фаворского СО РАН, Иркутск

Реферат: Пленки карбонитрида кремния синтезированы методом газофазного плазмохимического осаждения из молекулярных предшественников, являющихся силильными производными несимметричного диметилгидразина: (CH3)2HSiNHN(CH3)2, (CH3)2Si[NHN(CH3)2]2. Материал пленок представляет собой преимущественно аморфную матрицу с нанокрис­таллическими включениями. Индицирование рентгеновских дифрактограмм синхротронного излучения дает основания полагать, что структура нанокристаллов может быть отнесена к тетрагональной с параметрами решетки a=9,6 и c=6,4Å. Рентгенфотоэлектронные спектры обнаруживают в качестве основных гибридные химические sp3-связи Si—N и C—N. Отсутствие G- и D-мод в спектрах комбинационного рассеяния, характерных для структур с sp2-связыванием, подтверждает тетрагональную структуру образующихся нанокристаллов.
Библиографическая ссылка: Смирнова Т.П. , Бадалян А.М. , Борисов В.О. , Яковкина Л.В. , Каичев В.В. , Шмаков А.Н. , Нартова А.В. , Рахлин В.И. , Фомина А.Н.
Микроструктура и химическое связывание в пленках карбонитрида кремния, синтезированных методом плазмохимического осаждения из газовой фазы
Журнал структурной химии. 2003. Т.44. №1. С.195-199. РИНЦ
Переводная: Smirnova T.P. , Badalyan A.M. , Borisov V.O. , Yakovkina L.V. , Kaichev V.V. , Shmakov A.N. , Nartova A.V. , Rakhlin V.I. , Fomina A.N.
Microstructure and Chemical Bonding in Silicon Carbonitride Films Synthesized by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
Journal of Structural Chemistry. 2003. V.44. N1. P.169-173. DOI: 10.1023/A:1024953518950 WOS Scopus РИНЦ CAPlusCA OpenAlex
Даты:
Поступила в редакцию: 21 дек. 2001 г.
Принята к публикации: 20 сент. 2002 г.
Идентификаторы БД:
РИНЦ: 17761440
Цитирование в БД:
БД Цитирований
РИНЦ 2