Микроструктура и химическое связывание в пленках карбонитрида кремния, синтезированных методом плазмохимического осаждения из газовой фазы | Sciact - CRIS-system of Boreskov Institute of Catalysis

Микроструктура и химическое связывание в пленках карбонитрида кремния, синтезированных методом плазмохимического осаждения из газовой фазы Full article

Journal

Журнал структурной химии
ISSN: 0136-7463

Output data

Year: 2003, Volume: 44, Number: 1, Pages: 195-199 Pages count : 5

Tags

карбонитрид кремния, пленки, рентгенофазовый анализ, микроструктура слоев.

Authors

Смирнова Т.П. ¹ , Бадалян А.М. ¹ , Борисов В.О. ¹ , Яковкина Л.В. ¹ , Каичев В.В. ² , Шмаков А.Н. ² , Нартова А.В. ² , Рахлин В.И. ³ , Фомина А.Н. ³

Affiliations

1	Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН, Новосибирск
2	Институт катализа им. Г.К. Борескова СО РАН, Новосибирск
3	Институт химии им. А.Е. Фаворского СО РАН, Иркутск

Пленки карбонитрида кремния синтезированы методом газофазного плазмохимического осаждения из молекулярных предшественников, являющихся силильными производными несимметричного диметилгидразина: (CH3)2HSiNHN(CH3)2, (CH3)2Si[NHN(CH3)2]2. Материал пленок представляет собой преимущественно аморфную матрицу с нанокристаллическими включениями. Индицирование рентгеновских дифрактограмм синхротронного излучения дает основания полагать, что структура нанокристаллов может быть отнесена к тетрагональной с параметрами решетки a=9,6 и c=6,4Å. Рентгенфотоэлектронные спектры обнаруживают в качестве основных гибридные химические sp3-связи Si—N и C—N. Отсутствие G- и D-мод в спектрах комбинационного рассеяния, характерных для структур с sp2-связыванием, подтверждает тетрагональную структуру образующихся нанокристаллов.

Смирнова Т.П. , Бадалян А.М. , Борисов В.О. , Яковкина Л.В. , Каичев В.В. , Шмаков А.Н. , Нартова А.В. , Рахлин В.И. , Фомина А.Н.
Микроструктура и химическое связывание в пленках карбонитрида кремния, синтезированных методом плазмохимического осаждения из газовой фазы
Журнал структурной химии. 2003. Т.44. №1. С.195-199. РИНЦ

Smirnova T.P. , Badalyan A.M. , Borisov V.O. , Yakovkina L.V. , Kaichev V.V. , Shmakov A.N. , Nartova A.V. , Rakhlin V.I. , Fomina A.N.
Microstructure and Chemical Bonding in Silicon Carbonitride Films Synthesized by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
Journal of Structural Chemistry. 2003. V.44. N1. P.169-173. DOI: 10.1023/A:1024953518950 WOS Scopus РИНЦ ANCAN OpenAlex

Submitted:	Dec 21, 2001
Accepted:	Sep 20, 2002

Elibrary:

17761440

DB	Citing
Elibrary	2