Формирование высокоаспектных микроструктур на тетраакрилат/акриламидных мономерах под действием синхротронного излучения | Sciact - CRIS-system of Boreskov Institute of Catalysis

Формирование высокоаспектных микроструктур на тетраакрилат/акриламидных мономерах под действием синхротронного излучения Full article

Journal

Химия высоких энергий

Output data

Year: 2019, Volume: 53, Number: 2, Pages: 127–134 Pages count : 8 DOI: 10.1134/S0023119319020049

Tags

акрилатные мономеры, акриламидные мономеры, полимеризация, рентгенолитография, рентгенорезист

Authors

Деревянко Д.И. ¹ , Орлова Н.А. ¹ , Шелковников В.В. ^1,2 , Шундрина И.К. ¹ , Гольденберг Б.Г. ³ , Корольков В.П. ⁴

Affiliations

1	Новосибирский институт органической химии им. Н.Н. Ворожцова СО РАН
2	Новосибирский государственный технический университет
3	Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера СО РАН
4	Институт автоматики и электрометрии СО РАН

В работе получены фотополимерные материалы на основе новых полиакрильных мономеров акрилатного и смешанного акрилатно-акриламидного типов. Путем фотополимеризации получены сшитые пленки на основе синтезированных мономеров и проведено исследование термомеханических свойств сшитых пленок. Определены модули упругости фотополимерных пленок при комнатной температуре (1.3 и 1.5 ГПа) и температуре стеклования (82–93°С). Запись высокоаспектных микроструктур проведена с помощью синхротронного излучения на накопителе ВЭПП-3 (энергия электронов 2 ГэВ) станции LIGA в ИЯФ СО РАН. Выявлено, что под действием СИ с дозами 1–15 Дж/см3 происходит полимеризация мономеров. Получена зависимость толщины заданной микроструктуры от поглощенной дозы СИ и построена соответствующая характеристическая кривая. Получены микроструктуры с аспектным соотношением 1 : 25.

Деревянко Д.И. , Орлова Н.А. , Шелковников В.В. , Шундрина И.К. , Гольденберг Б.Г. , Корольков В.П.
Формирование высокоаспектных микроструктур на тетраакрилат/акриламидных мономерах под действием синхротронного излучения
Химия высоких энергий. 2019. Т.53. №2. С.127–134. DOI: 10.1134/S0023119319020049 РИНЦ OpenAlex

Derevyanko D.I. , Orlova N.A. , Shelkovnikov V.V. , Shundrina I.K. , Goldenberg B.G. , Korolkov V.P.
Fabrication of High-Aspect-Ratio Microstructures on Tetraacrylate/Acrylamide Monomers Using Synchrotron Radiation
High Energy Chemistry. 2019. V.53. N2. P.136-142. DOI: 10.1134/s0018143919020048 WOS Scopus РИНЦ ANCAN OpenAlex

Submitted:	Apr 9, 2018
Accepted:	Oct 30, 2018
Published print:	Mar 1, 2019

Elibrary:	36788795
OpenAlex:	W2912523057

Пока нет цитирований