Sciact
  • EN
  • RU

Microstructure and Chemical Bonding in Silicon Carbonitride Films Synthesized by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Научная публикация

Журнал Journal of Structural Chemistry
ISSN: 0022-4766 , E-ISSN: 1573-8779
Вых. Данные Год: 2003, Том: 44, Номер: 1, Страницы: 169-173 Страниц : 5 DOI: 10.1023/A:1024953518950
Ключевые слова Film microstructure, Films, Silicon carbonitride, X-ray phase analysis
Авторы Smirnova T.P. 1 , Badalyan A.M. 1 , Borisov V.O. 1 , Yakovkina L.V. 1 , Kaichev V.V. 2 , Shmakov A.N. 2 , Nartova A.V. 2 , Rakhlin V.I. 3 , Fomina A.N. 3
Организации
1 Nikolaev Institute of Inorganic Chemistry, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences, Novosibirsk
2 Boreskov Institute of Catalysis, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences, Novosibirsk
3 Favorskii Institute of Chemistry, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences, Irkutsk

Реферат: Silicon carbonitride films were synthesized by plasma enhanced chemical vapor deposition using silyl derivatives of asymmetric dimethylhydrazine, (CH3)2HSiNHN(CH3)2 and (CH3)2Si[NHN(CH3)2]2, as molecular precursors. The film material consists of an amorphous matrix with nanocrystalline inclusions. Indexing of synchrotron radiation X‐ray diffraction patterns suggests that the structure of the nanocrystals is tetragonal with lattice parameters a = 9.6Å and c = 6.4Å. X‐ray photoelectron spectra indicate that Si—N and C—N sp 3 hybrid bonds are predominant. The absence of G‐ or D‐modes in Raman spectra, which are otherwise typical of structures possessing sp 2 bonding, provides further support for the tetragonal structure of the nanocrystals.
Библиографическая ссылка: Smirnova T.P. , Badalyan A.M. , Borisov V.O. , Yakovkina L.V. , Kaichev V.V. , Shmakov A.N. , Nartova A.V. , Rakhlin V.I. , Fomina A.N.
Microstructure and Chemical Bonding in Silicon Carbonitride Films Synthesized by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
Journal of Structural Chemistry. 2003. V.44. N1. P.169-173. DOI: 10.1023/A:1024953518950 WOS Scopus РИНЦ CAPlusCA OpenAlex
Оригинальная: Смирнова Т.П. , Бадалян А.М. , Борисов В.О. , Яковкина Л.В. , Каичев В.В. , Шмаков А.Н. , Нартова А.В. , Рахлин В.И. , Фомина А.Н.
Микроструктура и химическое связывание в пленках карбонитрида кремния, синтезированных методом плазмохимического осаждения из газовой фазы
Журнал структурной химии. 2003. Т.44. №1. С.195-199. РИНЦ
Даты:
Поступила в редакцию: 21 дек. 2001 г.
Принята к публикации: 20 сент. 2002 г.
Опубликована в печати: 1 янв. 2003 г.
Идентификаторы БД:
Web of science: WOS:000184894700016
Scopus: 2-s2.0-0042711034
РИНЦ: 13433860
Chemical Abstracts: 2003:575830
Chemical Abstracts (print): 139:384750
OpenAlex: W203044934
Цитирование в БД:
БД Цитирований
Web of science 10
Scopus 10
РИНЦ 10
OpenAlex 10
Альметрики: