21
|
Atuchin V.V.
, Kruchinin V.N.
, Kalinkin A.V.
, Aliev V.S.
, Rykhlitskii S.V.
, Shvets V.A.
, Spesivtsev E.V.
Optical Properties of the HfO2 – xNx and TiO2 – xNx Films Prepared by Ion Beam Sputtering
Optics and Spectroscopy. 2009.
V.106. N1. P.72-77. DOI: 10.1134/S0030400X09010093
WOS
Scopus
РИНЦ
|
22
|
Атучин В.В.
, Кручинин В.Н.
, Калинкин А.В.
, Алиев В.Ш.
, Рыхлицкий С.В.
, Швец В.А.
, Спесивцев Е.В.
Оптические свойства пленок HfO(2x)Nx и TiO(2x)Nx, полученных методом ионно-лучевого распыления
Оптика и спектроскопия. 2009.
Т.106. №1. С.77-82.
РИНЦ
|
23
|
Ramana C.V.
, Utsunomiya S.
, Ewing R.
, Becker U.
, Atuchin V.V.
, Aliev V.S.
, Kruchinin V.N.
Spectroscopic Ellipsometry Characterization of the Optical Properties and Thermal Stability of Zr O2 Films Made by Ion-Beam Assisted Deposition
Applied Physics Letters. 2008.
V.92. N1. P.011917. DOI: 10.1063/1.2811955
WOS
Scopus
РИНЦ
|
24
|
Shvets V.A.
, Aliev V.S.
, Gritsenko D.V.
, Shaimeev S.S.
, Fedosenko E.V.
, Rykhlitski S.V.
, Atuchin V.V.
, Gritsenko V.A.
, Tapilin V.M.
, Wong H.
Electronic Structure and Charge Transport Properties of Amorphous Ta2O5 Films
Journal of Non-Crystalline Solids. 2008.
V.354. N26. P.3025-3033. DOI: 10.1016/j.jnoncrysol.2007.12.013
WOS
Scopus
РИНЦ
|
25
|
Atuchin V.V.
, Aliev V.S.
, Kruchinin V.N.
, Ramana C.V.
Optical Properties and Micromorphology of ZrO2/Si Films Created by Ion Beam Sputtering Deposition
Фундаментальные проблемы современного материаловедения. 2007.
V.4. N3. P.62-65.
РИНЦ
|
26
|
Gritsenko V.
, Gritsenko D.
, Shaimeev S.
, Aliev V.
, Nasyrov K.
, Erenburg S.
, Tapilin V.
, Wong H.
, Poon M.C.
, Lee J.H.
, Lee J.-W.
, Kim C.W.
Atomic and Electronic Structures of Amorphous ZrO2 and HfO2 Films
Microelectronic Engineering. 2005.
V.81. N2-4. P.524-529. DOI: 10.1016/j.mee.2005.03.056
WOS
Scopus
РИНЦ
|
27
|
Aliev V.S.
, Baklanov M.R.
, Bukhtiyarov V.I.
Silicon Surface Cleaning Using XeF2 Gas Treatment
Applied Surface Science. 1995.
V.90. N2. P.191-194. DOI: 10.1016/0169-4332(95)00072-0
WOS
Scopus
РИНЦ
|
28
|
Алиев В.Ш.
, Бакланов М.Р.
, Бухтияров В.И.
Исследование кинетики адсорбции XeF2 на поверхности Si(100) методом РФЭС
Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 1992.
№3. С.46-52.
РИНЦ
|