Формирование анодных слоёв на InAs(111). III. Исследование химического состава. Full article
Journal |
Физика и техника полупроводников
ISSN: 0015-3222 |
||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|
Output data | Year: 2012, Volume: 46, Number: 4, Pages: 569-575 Pages count : 6 | ||||||
Authors |
|
||||||
Affiliations |
|
Funding (1)
1 | Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences | 99 |
Abstract:
Методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии изучен химический состав анодных слоев (толщиной 20 нм), выращенных на InAs(111)A в щелочном и кислотном электролитах, не содержащих и содержащих NH4F. Показано, что состав фторсодержащих слоев определяется соотношением концентраций ионов фтора и гидроксилов в электролите, а также процессами диффузии, протекающими в растущем слое.
Фтор накапливается на границе раздела анодный слой/InAs. Окисление InAs в кислотном электролите с низкой концентрацией кислорода и высокой концентрацией NH4F приводит к формированию анодных слоев с высоким содержанием фтора, элементного мышьяка и образованию бескислородной границы раздела InFx /InAs. Фторсодержащие слои, выращенные в щелочном электролите с высокой концентрацией O2− и(или) OH−-групп, содержат примерно в 3 раза меньше фтора и состоят из оксифторидов
Cite:
Валишева Н.А.
, Терещенко О.Е.
, Просвирин И.П.
, Калинкин А.В.
, Голяшов В.А.
, Левцова Т.А.
, Бухтияров В.И.
Формирование анодных слоёв на InAs(111). III. Исследование химического состава.
Физика и техника полупроводников. 2012. Т.46. №4. С.569-575. РИНЦ
Формирование анодных слоёв на InAs(111). III. Исследование химического состава.
Физика и техника полупроводников. 2012. Т.46. №4. С.569-575. РИНЦ
Translated:
Valisheva N.A.
, Tereshchenko O.E.
, Prosvirin I.P.
, Kalinkin A.V.
, Goljashov V.A.
, Levtzova T.A.
, Bukhtiyarov V.I.
Formation of Anodic Layers on InAs (111)III. Study of the Chemical Composition
Semiconductors. 2012. V.46. N4. P.552-558. DOI: 10.1134/S1063782612040239 WOS Scopus РИНЦ ANCAN OpenAlex
Formation of Anodic Layers on InAs (111)III. Study of the Chemical Composition
Semiconductors. 2012. V.46. N4. P.552-558. DOI: 10.1134/S1063782612040239 WOS Scopus РИНЦ ANCAN OpenAlex
Dates:
Submitted: | Aug 25, 2011 |
Accepted: | Oct 3, 2011 |
Identifiers:
Elibrary: | 20319147 |
Citing:
DB | Citing |
---|---|
Elibrary | 4 |